前言xi系列

前言十三世

1介绍:掠射角1沉积技术

1.1纳米工程和掠射角沉积1

1.2 GLAD-vantages 4

1.2.1纳米形态控制4

1.2.2广泛的材料兼容性6

1.2.3小说薄膜材料特性10

1.2.4兼容标准精密加工过程10

1.2.5 11可伸缩的制造方法

1.3掠射角沉积的根源:斜沉积12

1.4实验校准13的重要性

1.5计算机模拟的掠射角沉积增长15

1.6 17掠射角沉积技术的主要应用领域

1.6.1能源和催化17

1.6.2传感应用19

1.6.3光学20

1.7总结和这本书的大纲21

2工程薄膜微观结构和掠射角沉积31

2.1介绍31

2.2基础的传统电影增长32

2.2.1物理汽相沉积32

2.2.2成核和聚结33

2.2.3列组织35

2.3掠射角沉积技术:通过底物运动37微观结构控制

2.4工程与α41电影形态

2.4.1控制微观结构和孔隙度41

2.4.2定向列增长:列倾斜β44

通过φ2.5工程电影形态:列转向旋转47

2.5.1控制列架构与φ:螺旋列47岁

2.5.2控制微观结构与旋转速度:垂直列48

2.5.3连续与离散基片旋转49

2.6生长特性的掠射角沉积技术电影53

2.6.1进化列增长53

2.6.2列扩大56

2.6.3列分岔57

2.6.4各向异性阴影和列范宁59

2.7先进60列转向算法

2.7.1β61年曲折微观结构变化

2.7.2 Spin-pause /两阶段基片旋转:解耦β和胶片密度63

2.7.3 Phisweep运动:competition-resilient结构增长67

72年2.8额外的控制薄膜生长和结构

2.8.1发布高温掠射角沉积72年增长

2.8.2复合结构:75年共沉积过程

81年3创建具有高度的均匀性纳米结构阵列

3.1介绍81

82年3.2种子层设计

3.2.1种子间距和种子身高84

3.2.2种子晶格几何86

3.2.3种子大小87

3.2.4平面填充分数89

3.2.5种子形状90

3.2.6二维阴影覆盖91人

3.2.7种子材料94

3.2.8设计参数总结95年

3.3种子生产95

3.3.1传统技术96

3.3.2非常规技术97

3.4 99年当地阴影环境先进控制

3.4.1防止分岔:slow-corner运动99年

3.4.2防止扩大:phisweep和衬底102

113年4属性和表征方法

4.1介绍113

113年4.2结构分析和电子显微镜

4.2.1实用方面准备114

4.2.2扫描电子显微镜图像分析117

4.2.3成像三维列:层析分节122

4.2.4内部列结构特征与透射电子显微镜成像124

4.3结构属性的掠射角沉积126年的电影

4.3.1薄膜表面粗糙度与进化126年

4.3.2列扩大128

4.3.3 Intercolumn间距和列密度133

4.4胶片密度134

4.1.1控制密度与α:理论模型135

136年10/24/11胶片密度的实验测量和控制

140年4.5 Porosimetry和表面积的决心

4.5.1掠射角的表面增强沉积141年的电影

4.5.2掠射角的孔隙结构沉积144年的电影

146年4.6晶体结构和演化

4.7电气性能148

4.7.1电阻率在微结构掠射角沉积148年的电影

4.7.2各向异性电阻率151

4.7.3造型掠射角沉积薄膜电阻率153

4.7.4 154个人nanocolumn属性

4.8机械性能155

155年4.8.1α对薄膜应力的影响

4.8.2硬度属性158

4.8.3掠射角的弹性行为沉积159年的电影

4.8.4 163额外的机械性能

173年5掠射角沉积光学薄膜

5.1介绍173

5.2结构的光学掠射角沉积173年的电影

5.2.1在173年柱状掠射角沉积薄膜光学各向异性

5.2.2造型掠射角沉积176年电影有效介质理论

5.2.3列和无效材料折射率179

5.2.4造型形式通过去极化因子180双折射

5.2.5处理微观结构不确定性:182年有效介电函数

5.3校准光学性质的掠射角沉积182年的电影

5.3.1基本测量:各向同性近似183

5.3.2校准各向异性与polarization-sensitive测量185

5.3.3深入的描述与广义技术186

5.3.4 186额外的因素

187年5.4控制掠射角沉积薄膜光学特性

5.4.1之前基本折射率与α187工程

5.4.2控制平面双折射与α188

5.4.3优化双折射与串行bideposition 189

5.4.4调制双折射与复杂的运动φ192

5.4.5控制n拥有先进的掠射角沉积195年的运动

195年5.5渐变型涂料:设计和制造

5.5.1掠射角的一般设计方法沉积渐变型涂料196年

5.5.2为渐变型高精度设计φ运动197年涂料

5.5.3 199年具体的例子

5.5.4防反射涂层199

5.5.5皱的干扰过滤器201

5.5.6避免高-α增长不稳定在205年渐变型电影

5.6 206年圆偏振光学设计螺旋结构

5.6.1的手性光学掠射角206年沉积的媒体

5.6.2 208工程基本的螺旋结构

5.6.3多边形210螺旋结构

5.6.4优化循环与串行bideposition 212年布拉格现象

5.6.5在213年螺旋结构微腔的设计

5.6.6捏造graded-birefringence薄膜设计214

216年5.7实用信息和问题

5.7.1 Post-deposition调优216

5.7.2环境敏感性217

5.7.3光学散射217

227年6 Post-Deposition处理和设备集成

6.1介绍227

227年6.2 Post-deposition结构控制

6.2.1退火227

6.2.2化学成分控制231

通过化学腐蚀231 6.2.3微观结构控制

6.2.4离子研磨结构修改233年

6.2.5表面修改235列

236年6.3沉积在空间的几何图形

6.4 237年掠射角沉积薄膜的照相平版印刷的模式

6.5封装和replanarization掠射角沉积240年的电影

6.5.1封装层衬底运动240年

6.5.2电影242年封装层压力

6.6集成电接触掠射角244年沉积的微观结构

6.6.1平面电极配置244

6.6.2平行板电极配置245

6.7电影247年在液体环境中

6.8使用掠射角沉积微观结构作为复制模板251

6.8.1单- 251和double-template制造流程

通过模板制造252 6.8.2纳米管制造

261年7掠射角沉积系统和硬件

7.1介绍261

7.2真空条件261

7.2.1真空要求掠射角261年沉积系统

7.2.2物理汽相沉积过程气体沉积263和更高的压力

7.3校准厚度和沉积速率监测265

7.3.1源方向性和工具因素265

在非零α7.3.2厚度校正:沉积率267

7.3.3扩展来源:于269年准直效果

7.4统一计算掠射角270年沉积过程

7.4.1计算几何变化在一个晶片270

7.4.2映射272厚度变化

274年移动基质7.4.3计算参数变化

7.4.4计算276年移动基板厚度均匀性

7.4.5计算列取向均匀278

7.5基板运动281年硬件

7.5.1α运动281年准确度和精密度

7.5.2φ283运动要求

7.5.3额外的考虑因素284

285年7.5.4衬底加热和冷却方法

7.6制造286可伸缩性

引用286年

选择专利289

指数297