使用CVD非晶硅涂层减少UHV系统中的除处

当淤积时®1000施加在真空系统的内表面上,它显着降低了扩散速率,并提供了处理室的生产率优势,其需要更快而有效的疏散。硅胶1000层大大减少了超高真空(UHV)系统中的钢部件的放气。

可以将硅胶1000层施加到钢表面上并组合到钢表面中,使得该层用作屏障,隔离钢上或钢上捕获的任何材料,并阻止它们进入UHV环境,而不释放自己的任何污染欧洲杯足球竞彩。

好处

淤泥®1000提供以下优点:

  • 通过减少真空泵向下时间减少2.5倍的过程时间
  • 通过降低离子污染和水分来增强过程产量
  • 通过减少或消除昂贵的设备烧坏或稳定来增加值2020欧洲杯下注官网
  • 易于使用,可以使用硅片定制涂层服务增强电流部件的性能。

与热清洗部件相比,图1显示了使用UHV组件中的硅胶1000处理部件获得的显着改进。硅藻土1000涂层部分显示在61℃下真空10小时后的热清洗部分低14倍。

硅胶1000处理的部件有助于实现和维持具有有限泵送能力的UHV环境,并且没有烘烤或预清洁。

比较硅藻土1000处理与未处理室的抽水速率。与未经处理的腔室相比,硅藻土1000将减少2.5倍或更大的泵送时间。(由ELVAC实验室提供的数据)。

图1。比较硅藻土1000处理与未处理室的抽水速率。与未经处理的腔室相比,硅藻土1000将减少2.5倍或更大的泵送时间。(由ELVAC实验室提供的数据)。

使用硅胶1000加速水分干燥

在半导体扇区中使用的气体转移系统需要低水分含量。用于干燥和润湿实验的数据,测量经处理的电抛光不锈钢管和常规316L不锈钢管中的水分含量变化的比较响应时间,揭示了施加硅藻土处理管与未处理管道的优势。

图2说明了硅胶1000处理的电抛光,标准管和未处理的电抛管管的湿曲线之间的比较。

硅藻土1000经处理的电力研磨管稳定在1ppm水分上比传统表面快得多。(奥布莱恩公司提供的数据)。

图2。硅藻土1000经处理的电力研磨管稳定在1ppm水分上比传统表面快得多。(奥布莱恩公司提供的数据)。

在30分钟内,经处理的电抛管达到98%的饱和极限,而电抛管管相比60分钟。定期管道能够在180分钟的跨度中达到96%的摄取。

水分干燥曲线揭示了淤泥1000在35分钟内完成干燥的电抛管管,而电极管需要65分钟,并且需要常规管道175分钟。在图3中,将干燥性能与饱和10ppm水分饱和的管道进行比较。

硅胶处理的电力研磨干燥比传统表面快得多。

图3。硅胶处理的电力研磨干燥比传统表面快得多。

硅藻土1000层坚固且足够长,以承受获得UHV环境所需的密封先决条件。图4说明了硅藻土1000处理的Conflat的刀刃®密封表面。

刀刃进入并密封在布隆特内安装的铜O形圈®表面。即使在这种密封过程的许多循环之后,硅藻土1000层也保持完整。

耐用的硅藻土1000层将承受UHV的密封要求,保持刀刃完整性。

图4。耐用的硅藻土1000层将承受UHV的密封要求,保持刀刃完整性。

结论

淤泥1000是一种高纯度硅化学气相沉积(CVD)表面处理,可用于排出UHV系统。硅藻土1000显着减少了不锈钢UHV系统中的放气。

该系统的疏水性质允许快速,有效地从UHV系统中泵送水分和其他一般表面污染物。

更好的过程产量,增强的过程设备生产率和优异的过程效率是减少污染的结果。2020欧洲杯下注官网

下载宣传册,了解硅胶表面处理的更多信息。

此信息已采购,从硅片提供的材料进行审核和调整。欧洲杯足球竞彩

有关此来源的更多信息,请访问硅片。

引用

请使用以下格式之一在您的论文,纸张或报告中引用本文:

  • APA

    硅片。(2019年7月24日)。使用CVD非晶硅涂层减少UHV系统的除气。Azom。从9月04日,2021年9月回购//www.wireless-io.com/article.aspx?articled=12588。

  • MLA.

    硅片。“使用CVD非晶硅涂层减少UHV系统中的除处”。氮杂。04 9月2021年9月。

  • 芝加哥

    硅片。“使用CVD非晶硅涂层减少UHV系统中的除处”。Azom。//www.wireless-io.com/article.aspx?articled=12588。(访问于9月4日,2021年9月)。

  • 哈佛

    硅片。2019年。使用CVD非晶硅涂层减少UHV系统中的除处。Azom,查看了2021年9月04日,//www.wireless-io.com/article.aspx?articled=12588。

问一个问题

您是否有疑问您对本文提出问题?

留下您的反馈意见
提交