优化的电线处理(Init)项目集中于配方和验证新的沉积方法,使得能够在纤维和电线上实现具有优异物理性质的均匀涂层。使用点源或平面靶的常规溅射技术具有与不允许向基材提供大量溅射物种的不可行的严重限制。
Hiden建议在高功率脉冲(HIPIMS)模式下操作的磁控溅射系统,其保留了相当数量的金属离子。这些离子在腔室壁上不会丢失,但是可以重复用于沉积过程,即使在相对低的功率输入处也能保持高水平的自溅射。新型涂料具有独特的化学品,物理和电气性能,可以获得高老化质量,机械强度非常好,机械和化学寿命长。
方法和沉积技术的验证与评估
以下关键目标被视为验证和评估方法和沉积技术:
- 使用通过等离子体诊断工具使用的实验数据使用粒子内(PIC)和蒙特卡罗技术的等离子体建模。进行广泛的等离子体建模和计算,以便建立散装等离子体的最佳特性(密度,几何,场分布等)。
- 电线智能加工领域达到了新的技术水平。该项目的原创性和关键难度涉及在具有中等大长度的小圆柱体积中集中高密度等离子体。Hiden旨在在电线周围开发适当的等离子体屏蔽,以便同时存放并植入本构型涂料。这种新的等离子体配置表示高沉积速率,因此高处理速度。将来,特别焦点将在实现完美的圆柱等离子体几何形状,以确保整个线表面的均匀处理。
- 通过Hiden分析间隔先进的Langmuir探测器进行了等离子体诊断。当探针位于四个基本平衡的磁控管之间的放电体积中的中间时,在Hipims等离子体的活性相位期间检查了不同功率模式。当循环由多于一个脉冲组成时,使用计数装置将触发波形转换成单个脉冲。在每个循环开始时,在放电电压的第一边缘电平之前开始触发5μs。在这种类型的配置中,探针可以为主等离子体参数提供125 ns分辨率,例如电子温度,电子和离子密度,等离子体和浮动电位。
具有Langmuir探头的实验系统,四个基本平衡的平面磁控管(2“Ti靶标),以及用于引入来自大气压的电线的毛细管系统
项目摘要:
o.v.vozniy.
DéPartementS欧洲杯线上买球cience et Analyze desMatériXux(山姆),
Center de Recherche Public - Gabriel Lippmann,
41,Rue du Brill,
L-4422 Belvaux
卢森堡
纸张参考:
O. Z.Vozniy,D. Duday,A。Lejars,T.Wirtz(2011)“高功率双阴极磁控系统的离子密度增加”真空86(1),78-81
Hiden产品:
Expion Advanced Langmuir探测器
按照Hiden Analytical的网站上的产品目录的链接获取更多信息
http://www.hidenanalytical.com/products/for-thin-films-plasma-and-surface- engineering/espion/
此信息已采购,审查和调整了Hiden分析提供的材料。欧洲杯足球竞彩
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