半导体分析-有机污染物的红外分析在纳米尺度分辨率

由力量纳米表面2017年6月5

有机基纳米污染物是微电子制造过程中常见的严重缺陷，包括数据存储、半导体和LED。这些种类的有机污染物对制造商来说是一个严重的缺陷问题，因为它们会导致产量问题，工艺延迟，甚至会导致产品报废。

污染物来自不同的来源，包括晶圆的转移和处理、空气中的分子污染、清洁技术、化学处理和人类与过程的相互作用。在检测和预防缺陷方面做出了重大努力;然而，仍然有一个重要的类别，包括有机纳米污染物，由于分辨率不充分，甚至在测量过程中对样品造成损害，使用现有的仪器很难实现准确的识别。

AFM-IR技术可以对污染物进行精确的化学识别，并提供纳米级分辨率的多种性质分析。

AFM-IR技术的关键功能如下:

裸硅片的有机纳米污染

以显示纳米级的化学表征能力nanoIR2-FS™系统,用半导体制造环境中常见的已知材料制备污染硅片，然后对其进行检测。欧洲杯足球竞彩对于每个样品，采用AFM-IR成像跟踪污染物，然后进行AFM-IR测量。

AFM高度图像(图1a)显示了晶圆片上残留的污染物(人体皮肤组织)的厚度变化(20到100 nm)。然后在可变样品厚度的位置采集AFM-IR光谱(图1b)。

正如预期的那样，观察到的红外强度随样品厚度而变化。然而，整体信噪比足以准确检测材料，即使在20 nm厚度，反映了在薄样品检测的非凡灵敏度。

(a)硅片上残留人体皮肤的AFM高度图像。(b)对应的AFM-IR光谱;酰胺I和II谱带显示。

图1所示。(a)硅片上残留人体皮肤的AFM高度图像。(b)对应的AFM-IR光谱;酰胺I和II谱带显示。

nanoIR2-FS的新快速光谱功能能够在整个红外调谐范围内更快地获取光谱，并允许将光谱采集时间减少10倍。如图2所示，这一成果仍然允许FTIR光谱的准确采集。

从样品中获得的AFM-IR光谱与常用的FTIR数据库(KnowItAll, Bio-Rad Inc.)进行比较。约30 nm高的污染残留物被阳性检测为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，一种通常用于涤纶织物的聚合物。

(a)含有机残留物晶圆片的AFM高度图像。(b)快速光谱数据显示(红色)和关闭(蓝色)污染物。(c)通过FTIR数据库确定表面污染物为PET。

图2。(a)含有机残留物晶圆片的AFM高度图像。(b)快速光谱数据显示(红色)和关闭(蓝色)污染物。(c)通过FTIR数据库确定表面污染物为PET。

这些信息来源于布鲁克纳米表面公司提供的材料。欧洲杯足球竞彩有关此来源的更多信息，请访问力量纳米表面．

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美国心理学协会
力量纳米表面。(2021年1月15日)。半导体分析-有机污染物的红外分析在纳米尺度分辨率。AZoM。于2021年9月08日从//www.wireless-io.com/article.aspx?ArticleID=14051检索。
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力量纳米表面。“半导体分析-纳米尺度有机污染物的红外分析”。AZoM．2021年9月08年。< //www.wireless-io.com/article.aspx?ArticleID=14051 >。
芝加哥
力量纳米表面。“半导体分析-纳米尺度有机污染物的红外分析”。AZoM。//www.wireless-io.com/article.aspx?ArticleID=14051。(2021年9月8日生效)。
哈佛大学
布鲁克纳米表面，2021年。半导体分析-有机污染物的红外分析在纳米尺度分辨率．viewed September 21, //www.wireless-io.com/article.aspx?ArticleID=14051。