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石墨烯是一种超薄的神奇材料，随着人们对其卓越性能的关注不断增加，世界各地的研究人员继续致力于用其他可能有用的材料来模拟这种薄而固有的设计。欧洲杯足球竞彩
来自皇后大学的雷蒙德·麦奎德、阿米特·库马尔和马蒂·格雷格领导了一组研究人员，他们致力于为未来的电子设备应用开发薄而导电的薄片，他们开发了存在于晶体材料中的“域壁”。欧洲杯足球竞彩
为了开发更紧凑、更薄的电子设备，同时为消费者提供更好的功能速度、更大的存储空间和其他必要的元件，研究人员开始关注这些设备中的电路。为了制造更小的电子设备，它们必须配备更小的电路，然而，对这些设备中大量先进部件的需求往往会导致最终产品的尺寸增加。
在BiFeIO薄膜中，畴壁可以保持一致的电导率3.然而，在这种电荷壁结构下保持电路稳定性的能力很难实现。更具体地说，尽管在适当的铁电应用中已经开发了控制畴壁电荷状态的技术，但它们仍然严重缺乏。
为了开发一种控制带电畴壁电导率的方法，皇后大学的研究人员使用了合适的铁弹性非合适的铁电铜3.B7O13Cl单晶，更正式地称为Cu-Cl硼酸盐单晶板。通过原子力显微镜(AFM)以及纳米尺度的空间分辨电流映射来测量畴壁电导率进行拓扑确认测量。
Cu-Cl硼砂晶体具有头到头的90°畴壁、尾到尾的90°畴壁和未带电的180°畴壁。这项研究中使用的书写技术是畴壁独有的，因为研究人员在1GPa的压力级下将一个尖端细小的金属探针应用到晶体表面。
当这种压力被施加到晶体表面时，发现畴壁迁移率增加，从而启动了能够拉伸到畴壁全长的导电畴壁图案的生长。
当考虑到晶体结构的长度和厚度时，畴壁的独特导电性质尤其令人印象深刻。当人工合成时，Cu-Cl硼酸盐晶体可以测量到几百微米的长度，同时保持一个极薄的结构，测量厚度只有几纳米。
施加压力的强度影响了沿畴壁微电路的发展，同时也改变了电路本身的特性。应用的探针在金属探针和晶体表面的接触点周围开始创建这些域，从而创建一个独特的导电壁图案。
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除了可以通过增加晶体的应力来轻松操纵外，这些畴壁内的外加电场还可以改变微电路产生的位置，这有可能成为电压操作器件中域壁未来应用的有用工具。
随着可重构电子器件的发展继续成为其特定行业的兴趣点，本研究开展的工作有可能改变这些微电路在有用产品中的发展和行为。
虽然他们的结果是有希望的，皇后大学的研究人员敦促未来的工作进行进一步了解温度和压力变化如何影响这些畴壁的稳定性和惰性导电性质。
引用:
- “不当铁电性Cu-Cl硼砂中导电畴壁的注入和控制运动”R. McQuaid, M. Campbell等。自然通讯．(2017)．DOI: 10.1038 / ncomms15105。
- 图片:Shutterstock.com/tcareob72
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