聚焦离子束的纳米制造

通过聚焦离子束（FIB）提供补充整个纳米制作过程的各种直接图案化或掩蔽技术。为了减少过程开发中涉及的努力，简化纳米制作过程，可以进行铣削，直接蚀刻或沉积。除了标准抗蚀光刻之外，还可以使用离子注入，表面官能化和无抗抗掩模等其他技术来选择性地修改材料或引导随后的加工步骤。

Fib纳米制剂超越镓

基于EBL的纳米制剂是由FIB纳米制作方法互补的，在多大程度上可以集成具有再现性，高分辨率，自动化和光刻级稳定性的系统中的系统。raith的专有FIB技术可以升级以便稳定地交付多种新的离子物种，包括Si和Au。这些离子物种可以在几秒钟内容易地选择并用于新的，改进的加工。此外，该技术可以扩展到用于特定于应用的特定能力的离子源，例如量子技术中的离子植入。

多品种合金来源。图片来源:Raith

氦和氖的纳米图案和成像

聚焦的氦和氖光束以其互补的强度为纳米图案的形成铺平了道路。这些离子来自气田离子源，非常轻，可以提供不同的材料/光束相互作用，铣削速度较低，但侧向加工的灵敏度较高。这种超精细特征的模式是由蔡司的猎户座纳米fab和raith elphy multibeam基于显微镜平台。通过使用与使用EBL或FIB纳米制型器械的混合和匹配方法相关的氦气和氖离子束可以进一步改善纳米射精。

此信息已采购，从raith提供的材料审核和调整。欧洲杯足球竞彩

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