FIB(聚焦离子束)技术在过去的几十年里已经崭露头角。与扫描电子显微镜或SEM相结合，FIB技术变得更加通用，能够处理许多不同的功能。
通常使用显微镜和实验室分析的FIB-SEM过程。当FIB-SEM显微镜系统能够处理基本图案和样品制备的任务时，它变得更有价值。Raith设计的FIB-SEM系统已经成为一种纳米制造和3D图形工具，也可以处理自上而下的光刻。研究人员可以使用围绕FIB设计的FIB- sem作为主要的图案绘制技术，利用聚焦离子的独特功能，使用显微镜技术和激光干涉仪stage功能。这使得Raith系统与其他可用选项相比更加独特和强大。
EBL的优势和局限性
电子束光刻技术(EBL)是工业上一种常用的纳米制造技术。该系统使用聚焦电子束在电子敏感薄膜上创造纳米结构。它提供了精确的结果，具有最佳的位置和束电流稳定性。使用工业标准的GDSII设计软件、先进的光束控制、导航和真正的自动化可以快速、准确地在平面上创建纳米结构。然而，EBL不能很好地工作在地形表面的模式。三维形状的定义变得难以处理。
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图1所示。与EBL方法(左)相比，在FIB(右)情况下，起飞过程的步骤数大大减少。图片来源:Raith
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