使用残留气体分析仪进行污染监测和过程控制

残留的气体分析仪(RGA)是紧凑的四极杆质谱仪,其通常用于超高真空(UHV)应用中的过程控制和污染监测。离子源组件和压差采样系统之间的商业RGA存在一些差异,但核心设置包括配有电离器的探针和能够测量质量达比率的分辨率的检测器。利用这种技术,用户可以在真空和真空过程中量化残留的气体或蒸气,并最小地改变真空环境的化学。

剩余气体分析仪

Hiden分析RGA.依赖于此字段,定期用于执行控制或监控任务,例如:

  • 真空诊断包括泄漏检测,使用氦(氦)等搜索气体以质量4测量的用于快速分析响应;
  • 从研究真空室和真空炉中的质量2在质量2中检测,这会影响最终真空条件的形成;
  • 检测UHV室中的任何污染,其中各种烃用于高度敏感的宽批量扫描,可以接受污染的存在

Hiden的RGA系列中有三种规格级别:Halo;3F系列;和3f-pic。虽然它们包含要改变规范的组件,但是每个模型都被校准并测试,以确保典范以精度最大限度地工作。RGA系列质谱仪仪器特征质量范围选项50,100,200,300和510 AMU,高速采集的数据量为每秒650次测量。虽然3F系列和3F-PIC RGA用于实验室工作,但HALO最适用于过程控制和污染监测。

光环rgas.

Halo RGA能够测量具有高灵敏度的部分压力值,在质量范围内实时监测多种物种。其精度使得它可以以每百万百万(PPM)的5份空气中的氦,在传统分析仪上增加五倍。这是一种无与伦比的泄漏检测精度水平,为用户提供了一个福音,以提高其真空室中的UHV质量。

光环可以进行趋势分析和综合真空调查,具有离子源护罩,用于污染抗性,完全去除零爆炸基线漂移。这使得UHV环境中的残余气体分析具有最小的入侵。

Hiden分析也提供了HPR-30,一种综合工艺和残留气体分析系统,优化了广泛的过程中的气体和蒸汽分析。

HPR-30系统

HPR-30系统允许直接分析,提高100件余量(PPB)的敏感性,宽压力范围为10-4- 1000毫巴。这种惊人的精度是用于处理控制和污染监测的理想,如原子层沉积(ALD)和真空涂层,需要控制绝对纯度,确保纳米结构精确沉积。

Hiden分析的RGA

Hiden Analytical在专用质量光谱仪的开发和制造方面拥有超过30年的经验,并查看其在实际上无限范围的应用程序中部署的产品,了解和确保各个部门的高灵敏度过程控制。他们的RGA已经在各个部门实施,包括讨论真空环境中气态颗粒的密度的理论星形化学研究。欧洲杯猜球平台

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    Hiden分析。(2021年2月04日)。使用残留气体分析仪进行污染监测和过程控制。Azom。从Https://www.wireless-io.com/artice.aspx?articled=15888从//www.wireless-io.com/1021中检索。

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    Hiden分析。2021。使用残留气体分析仪进行污染监测和过程控制。Azom,查看了2021年9月03日,//www.wireless-io.com/article.aspx?articled=15888。

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