如何评估CVD涂层？

本文将专注于表征CVD涂层所需的工具。

本文将涵盖：

• 使用表面表征来测量表面粘合程度，如何兼容表面和涂层的质量
• 使用表面能表征来测量亲水性和疏水性和其他表面参数
• 使用薄膜分析来确定涂层的最佳厚度
• 使用阻抗测量来确定CVD涂层的质量

材料表面表征能力硅片^®。

硅片^®表面表征能力

表征材料表面的能力是硅胶涂层研发的重要组成部分。为了了解新的惰性涂层，表面必须彻底表征。这在规模上调和过程改进中起着重要作用。

有几种不同的表面表征方法可用于了解对表面性质的理解和所发生表面粘合的机构。使用材料表征评估由硅片开发的所有涂层，以确保涂料满足客户需求，并且具有高质量。

Silcotek还与客户一起工作，协助表征，为其特定涂层部件和基材材料提供新的解决方案。欧洲杯足球竞彩

硅片，以及在房屋内进行分析，也通过长期建立的关系在宾夕法尼亚州立大学（PSU）的设施。Silcotek的研发团队经过认证，在宾州州立大学的材料表征实验室（MCL）使用仪器。欧洲杯足球竞彩在这里，我们探索用于此分析的一些工具。

用于表面特征的工具

涂层表征需要两件事 - 具有知识的R＆D团队，以表征表面，以及进行分析所需的工具。下面探讨了用于分析CVD涂层的一些工具。

XRF（X射线荧光）分析

XRF是一种测定合金元素组成的非破坏性方法，用于在涂层前测定表面的元素和金属基体。

了解基材的确切构造允许使用最佳的加工方法和最合适的涂层，这意味着涂布过程得到了优化。这是重要的，因为基板的结构决定了形成的表面粘合剂，涂层质量和整体产品性能。

FT-IR（傅立叶变换红外）光谱

FT-IR使用红外分析来确定物种的化学身份，无论其状态如何。该技术经常用于开发新涂层时的质量分析和控制和研发。

FT-IR还可用于确定分子水平的表面的质量。当与视觉检查一起使用时，例如利用显微镜，可用于分析涂层的质量以及已经涂覆了多少表面。

薄膜分析

硅片提供自己的薄膜分析仪，可用于非破坏性地测量30埃和350毫米之间的厚度。该系统还可用于确定诸如消光和透射率的光学系数，以及折射率。

硅片用薄膜分析快速确定表面厚度和质量控制。

测量表面接触角

接触角是与其接触的表面的角度的角度。更具体地，这是通过液滴测量的接触点和固体表面之间的液体弯月面之间的角度。接触角的值表示表面可以容易地润湿。

接触角是在氢化合物和超疏水性的​​表面表面时是一个重要的参数。正确设计的表面，正确的能量，可以使表面极其排斥，这增强了模具的释放行为，并降低了表面污垢的程度。

接触角的测量允许硅片，以确保达到特定应用所需的表面能（以及因此亲水性或疏水性）。

EIS（电化学阻抗光谱）

EIS是一种有用的(大部分)无损评价金属基板涂层性能的技术。

EIS提供有关涂层双层和单层电容及其游览阻抗的信息，所有这些都可以与涂层的性能相关，特别是用于腐蚀性环境的涂层。该技术可用于识别涂层中的间隙并开发具有更均匀的扩散的涂层。

硅片测试

本文介绍了可用的材料表征的不同方法硅片。这些工具允许硅胶开发新的涂料，并帮助客户解决具有挑战性的问题。

这些工具的硅胶仪的易用性确保它们可以提供始终如一的高品质的涂层。

此信息已采购，从硅片提供的材料进行审核和调整。欧洲杯足球竞彩

有关此来源的更多信息，请访问硅片。