解释薄膜的沉积技术

在真空腔内做溅射制作薄膜技术。（图片致谢:Wutthikrai Busayaporn/ shutterstock.com)

随着材料科学的发展，薄膜沉积技术得到了迅速的发展，在我们的日常欧洲杯线上买球生活中起着至关重要的作用。薄膜沉积是将一层薄膜涂在另一种材料表面的行为。它被用于制造诸如计算机和薄膜晶体管之类的器件。它还可以应用于半导体的生产，以及简单的日常用品，如典型的家用镜子。

在表面沉积薄膜用于修饰被涂材料表面的物理或化学性质。它们可以改变它的光学、电学和热学性质;然而，薄膜并不会改变材料的体积特性。沉积的过程包括3个基本步骤——首先，沉积物质被合成，然后它从物质转移到物质的表面。最后，它被沉积到基片上，形成一层薄膜。如果这三个步骤彼此独立，流程的灵活性就会提高，因为每个步骤都可以单独控制，并根据需要进行变化。有三种类型的薄膜沉积技术-纯物理，纯化学和物理-化学混合方法。

纯物理方法的一个例子是真空蒸发。为了进行真空蒸发，源和基片位于一个内部有加热器的真空室中。热源被加热，直到开始蒸发，原子和分子开始离开它的表面。当颗粒到达基材表面时欧洲杯猜球平台，由于基材的温度低得多，它们就会在基材上凝结。他们将在那里沉积，形成一个薄膜层。该层的厚度取决于几个不同的因素，其中之一是来自源头的蒸发速率。

气相化学过程，如热氧化，是纯化学沉积技术的例子。在热氧化过程中，减法本身提供了制造沉积层的材料。这一过程发生在700˚C至1200˚C的温度范围内。最重要的热氧化方法之一是使用二氧化硅。由于硅能自然形成稳定的氧化物，高温只会加速这一过程。它在半导体的生产和硅器件的制造中非常重要。

混合物化方法的例子有辉光放电技术。辉光放电是通过气体的电流产生的等离子体。在其最简单的形式，它由阴极和阳极在一个电池保持在低压(约0.1-10托)。辉光放电过程中最常用的技术叫做溅射。当离子与电极表面的原子发生碰撞，原子从电极表面喷射出来时，就会发生这种情况。有几种不同的溅射工艺-二极管溅射、反应溅射、离子束溅射、偏压溅射和磁控溅射。

在使用直流二极管的情况下，两个电极被放置在真空室中。要溅射的物质叫做靶。它是系统中的阴极——简单地说，就是一个保持在负电位的板，而衬底是阳极。阴极受到正离子的轰击并喷射出原子，这些原子被压缩到衬底上。在这个过程中，沉积物会堆积起来，在阳极上形成一层膜。在反应溅射中，靶被放置在反应气体中，如臭氧和一氧化碳。

有许多其他不同的方法来创建薄膜沉积;然而，重要的是总是找到最适合特定需求的。在选择特殊材料时，应该考虑的一些因素是它的具体应用以及将要使用的材料的物理和化学特性。欧洲杯足球竞彩

资料来源及进一步阅读

• 韦特，m.m.，沙阿，S.I.和格洛克，地检官2010）.溅射源．Ch 15载。
• 珊,k (2002）.薄膜沉积工艺与技术手册 :原理、方法、设备及应用2020欧洲杯下注官网(第二版)。诺维奇，纽约:诺伊斯出版社/威廉·安德鲁·巴格。
• 马丁,点,(2009）.薄膜和涂层沉积技术手册:科学，应用和技术。欧洲杯线上买球威廉·安德鲁。

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