等离子体处理技术在失效分析中的应用

由...赞助牛津仪器等离子体技术2019年12月19日

失效分析(FA)是半导体器件制造的一个重要组成部分，它是一项检测工作，消除缺陷，帮助保持一致，可靠的高质量器件制造。

等离子体处理技术在失效分析中的应用

在这篇白皮书中，我们提出了一套用于FA的等离子体处理工具，目的是为它们在不同任务中的适用性提供实际指导。发现故障和诊断其来源的一种方法是逐步和精确地去除各种器件层，以暴露嵌入式电路结构。现代集成电路(ICs)的密度意味着湿法蚀刻工艺不再适用于这项鉴定任务，它们现在已经被更复杂的等离子处理技术所取代。等离子蚀刻允许精确和可重复的去层，而等离子沉积使感兴趣的特征的共形涂层，一种称为装饰的技术，这提供了生产成像所需的强烈反差。

图1所示。由于大规模集成（VLSI）开始于20世纪70年代，IC设计变得越来越密集，复杂，为FA创造了重大挑战。由Cepheiden提供。

考虑了等离子体增强(PE)蚀刻、反应离子蚀刻(RIE)和电感耦合等离子体(ICP)蚀刻在去除FA中经常遇到的材料方面的优点。欧洲杯足球竞彩比较了等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和原子层沉积(ALD)在装饰方面的应用。

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