等离子体沉积以获得最大性能

与高电子迁移率相结合的InP的性质使其成为制造光电器件的理想半导体。密钥应用程序是通信,这通过增加的数据流量迅速扩展。

InP能够制造能够在高频率下运行的组件,从而实现更高的数据量。特别是,它为激光二极管制造提供了引人注目的优势,以具有竞争力的价格提供了出色的功能。当设计和制造得到优化时,InP激光器可在较宽的温度范围内提供高光谱纯度和光功率。此外,1100–2000nm的可实现波长范围是光纤通信的最佳选择。因此,为InP激光器的生产制定成本效益高的处理策略直接支持通信的发展,以支持不断增长的数据传输需求。

使用橙色突出显示的等离子体处理方法实现的INP激光器制造的处理步骤

图1。使用橙色突出显示的等离子体处理方法实现的INP激光器制造的处理步骤

在本白皮书中,我们研究了对InP激光二极管制造中的等离子体处理技术的作用,其专注于电感耦合等离子体化学气相沉积(ICPCVD)和等离子体增强CVD(PECVD)的相对优点。主要目的是突出不同流程的相关特征,并展示如何组合地最佳地应用,以有效地制造高性能激光器。

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    牛津仪器等离子体技术。(2019年12月19日)。等离子体沉积以获得最大性能。Azom。在2021年9月10日从//www.wireless-io.com/article.aspx?articled=18702中检索。

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    牛津仪器等离子技术。“最大性能的等离子沉积”。亚速姆。2021年9月10日。

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    牛津仪器等离子技术。“最大性能的等离子沉积”。亚速姆。//www.wireless-io.com/article.aspx?ArticleID=18702. (查阅日期:2021年9月10日)。

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    牛津仪器等离子技术。2019等离子体沉积以获得最大性能。Azom,查看了2021年9月10日,https://www.wireless-io.com/article.aspx?articled=18702。

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