倾斜蚀刻的轮廓控制

用于形成诸如AR耳机的组合器的应用的倾斜光栅已经看到了最近的浪涌。离子束蚀刻技术是最适合的技术之一，以实现这些应用所需的光栅设计。离子束方向与通过压板角度设置的可变入射光束角度相结合，可以在纳米透明情况下实现剖面控制和特征整形。

离子束专业知识对于提供这些光栅所需的制造公差至关重要。牛津仪器等离子体技术公司开发了一种技术，允许光学设计师为大师建造高质量的光栅。我们的解决方案提供了从0°到55°的角度超过200毫米的大的统一处理区域。在本文中，我们分享了我们的经验，在调整过程为优良的形状控制。

倾斜光栅的工艺调整

独特的离子束能力允许在固定的压板角度而不旋转蚀刻材料。欧洲杯足球竞彩该技术可以应用于产生倾斜的光栅以及倾斜的波导刻面。图1A和1B示出了蚀刻工艺之前和之后的示意图和与设定为35°的压板角度设定的实际过程。这可以为浅层或深度蚀刻的光栅进行;典型的掩模是将金属诸如Cr或Al的金属。靶向的角度通常在35°和55°之间。

在离子束蚀刻中，压板角度定义离子的入射角。使用诸如光束电流，光束电压，加速器电压和源气流等参数实现进一步的处理调整。当蚀刻倾斜的特征时，临界参数包括填充因子，CD变化和蚀刻深度。为了满足这些要求，应仔细选择面罩的厚度，因为选择性可以限制在物理蚀刻中。然而，由于宽高比可能会影响由于遮蔽而导致的矛盾，因此不建议使用过厚的掩模。

当蚀刻倾斜特征时，控制侧壁角度和侧壁的平行度也是至关重要的。为了在沟槽两边达到相同的深度，我们建议使用化学过程而不是纯粹的物理过程。化学副产品将很容易被去除在紧角自然产生，因为倾斜的轮廓。通常是Ar/CHF的混合物_3.对于SIO.₂和Ar与SF₆或Cl.₂可以用于Si。

蚀刻的化学和物理方面的能力也与束流(IB)和束流电压(VB)紧密相连。束流越高，化学方面的优势就越大;而光束电压越高，物理方面的优势就越大。

束流电压驱动蚀刻的方向性，而化学侧提供各向同性和必要的材料去除所需。

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此信息已被采购，从牛津仪器等离子体技术提供的材料进行审查和调整。欧洲杯足球竞彩

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