烧结、反应键、晶体生长和化学气相沉积(CVD)是工业过程用来制造碳化硅。
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低密度、高刚度、特殊硬度和耐磨性都的特点碳化硅。CVD材料可以开发一个电阻低至1Ω·厘米,使其可接受的电导体。
然而,这种电特性使使用电火花加工技术制造的特性,可以便于生成高纵横比的小孔。精密组件生成的CVD原文如此空格必须使用金刚石磨流程完成。
相对的高导热硅碳化物是另一个有趣的质量。再次,CVD材料优于铸铁和普通钢获得至少150 W /可。随着温度增加,导热系数降低,因此必须仔细权衡对应用程序的需求。
多年来,应用程序需要强烈的热冲击宽容和抗侵蚀高能等离子体采用CVD碳化硅半导体制造。
各种各样的应用程序可以受益于CVD的品质,包括电极和溅射靶,基座,气体分布板,轻叩,加热器,戒指,和任何其他应用程序需要的导电性,耐磨性和抗热震性能。
INSACO公司制造这种材料制成的精密组件很多年了。INSACO的技术包括钻石研磨CVD碳化硅极其困难的可用状态。通常,INSACO将收到最合适的组件生产商,然后生产他们来满足最严格的尺寸规格的客户。
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财产 |
价值 |
机械 |
密度 |
3.21通用/ cc |
硬度 |
2540年努 |
弹性模量 |
68 x 106ψ |
抗弯强度 |
67年kpsi |
泊松比 |
0.21 |
断裂韧性 |
2.7 - 3.3 MPa½ |
热 |
热膨胀系数 |
2.2 x 106/°C |
热导率 |
250 - 300 W /可 |
比热 |
0.70大卡/ g°C |
所有属性都是在室温下,除非另有注明。
工程数据代表,并不打算作为绝对也不正当的。制造商的数据显示来自多个源的混合,因此说明了市场。
这些信息已经采购,审核并改编自INSACO Inc .提供的材料,加工硬质材料。欧洲杯足球竞彩
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