蚀刻的方法在制造半导体化学去除层从晶片衬底的表面。腐蚀是一个至关重要的过程,每个晶片受到几个蚀刻步骤之前完成。
图片来源:瑞士万通美国公司。
保证执行的腐蚀是最优的,严格的质量控制措施需要确定酸蚀刻剂浓度不同的混合酸的解决方案。
SPM(硫acid-peroxide混合,称为食人鱼的解决方案),DSP(稀硫酸acid-peroxide混合),或DSP +(稀硫酸acid-peroxide-hydrofluoric酸混合)通常是利用蚀刻的解决方案,选择是依赖于晶片衬底和蚀刻步骤。
保持适当的平衡的酸浓度在这些混合物是至关重要的优化腐蚀速率,腐蚀过程的均匀性和选择性。
本文提出了一种技术同时测定过氧化氢和硫酸在网上通过拉曼光谱使用SPM和DSP的解决方案PTRam分析仪从瑞士万通过程分析。
两种类型的腐蚀过程是利用半导体行业,即干和湿蚀刻。干蚀刻等利用活性气体等离子体去除不想要的部分的半导体材料。湿式蚀刻涉及材料的选择性去除衬底通过化学解决方案。
这些过程被广泛应用在许多行业,如半导体、电子和金属加工。干态和湿蚀刻过程取决于使用的特殊需要的设备制造。
然而,通常采用湿蚀刻已经超过干蚀刻生产半导体,特别是对于去除大量的晶片材料和便于处理。1
根据层或材料进行腐蚀和预期的结果,不同类型的化学浴可以用于湿蚀刻半导体。硫酸acid-peroxide混合,水虎鱼解决方案(SPM)和稀硫酸acid-peroxide混合(DSP)经常产生硅晶圆。2
湿蚀刻成功,精确控制的试剂浓度溶液中是必需的。确定酸浓度的混合酸浸浴是质量控制的关键步骤,可以影响腐蚀过程的结果。
DSP和SPM都有潜在毒性的解决方案时需要极其谨慎的处理。时应佩戴个人防护装备(PPE)处理这些化2020欧洲杯下注官网学物质,并且所有废料必须根据当地法规处理。欧洲杯足球竞彩
因此,在线分析是需要尽量减少员工接触,防止事故发生。除了前面提到的危害,手动采样混酸浴的不良是由于潜在的错误,时间的限制,并在生产过程中断。
手动取样可能会导致不一致的取样位置和深度,可能提供不准确的数据关于浴缸的实际情况。需要一个更好的解决方案,使过程的实时控制,最小化操作中断,提高安全,更精确的和代表性的数据。
更安全、更快和更有效的方法,同时监测多个参数在混酸浴使用拉曼光谱是通过reagent-free在线分析。
PTRam分析器从瑞士万通过程分析,如图1所示,非常适合这个具有挑战性的情况。这种拉曼分析器允许实时光谱数据从流程参考方法相比,如滴定。
图1所示。PTRam分析器从瑞士万通过程分析。图片来源:瑞士万通美国公司。
有最小的可用空间内安装一个分析系统湿台区域,如图2所示。结果,小尺寸的PTRam分析仪密闭空间的完美解决方案。
嵌入式软件和影响范围的工业通信协议使结果传输相同的格式可编程序逻辑控制器(PLC),分布式控制系统(DCS),或监控和数据采集(SCADA)系统等进一步行动调整化学计量。
应用程序
Perfluoroalkoxy (PFA)油管被广泛用于应用程序与激进的媒体由于其优良的耐化学性,非常有价值。拉曼光谱可以测量通过透明和半透明材料。欧洲杯足球竞彩
这个应用程序使用此属性通过PFA油管测量样本,如图2所示。
一)
b)
图2。建议放置的)仿效在线拉曼探头晶片蚀刻过程中湿的长椅上,b)期间收集的拉曼光谱测量。图片来源:瑞士万通美国公司。
结论
利用拉曼光谱,特别是PTRam分析仪从瑞士万通过程分析,提供了一个高效、可靠的在线监测技术的过氧化氢和硫酸腐蚀解决方案如DSP和SPM中的内容。
这个在线分析方法允许同时多个参数的实时测量数据,实现精确控制试剂混酸浴的浓度。
通过比较光谱数据和参考方法,拉曼光谱可以促进一个更安全的生产环境中通过消除暴露运营商危险化学试剂。
使用拉曼光谱监测腐蚀浴成分也提高了晶片清洗的效率。它增加产品吞吐量、生产速度、再现性和整体盈利能力通过减少浪费和提供最佳的腐蚀过程。
引用和进一步阅读
- 干刻蚀与湿蚀刻-差异和应用程序。https://www.xometry.com/resources/blog/dry-etching-vs-wet-etching/(2023-05-03)访问。
- 提示,p . j .;尼尔森·g·c·;马特洛克,c . a;et al。硫酸/过氧化氢冲洗研究中,桑迪亚国家实验室。
这些信息已经采购,审核并改编自美国瑞士万通公司提供的材料。欧洲杯足球竞彩
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