介绍的γ-TiAl合金近年来引起了人们的广泛关注。它们被考虑用于航空航天应用,如飞机、空间卫星、导弹、涡轮叶片、发动机气门和涡轮增压器转子O高温强度高、密度低、熔点高、耐高温蠕变[1-7]。该合金的两个主要缺点是在室温下塑性有限,在高温下表面性能差[2-5]。通过加入Nb、Cr、Mn、Mo、W、Ta和V[5]等合金元素,可以提高合金的极限塑性。通过表面改性可以改善表面性能[3,5]。TiN涂层已被广泛应用于提高硬度和耐磨性的许多应用。涂膜有许多方法。它们是物理气相沉积(PVD)[8,9],化学气相沉积(CVD)[10,11],等离子体沉积[2,12 -14],阴极弧(CA)[15-18],离子注入[19]和直接金属-气体反应[3,4,20]。等离子体沉积是一种清洁技术,是本研究的选择。 实验合金用于氮化的合金为MJ12和MJ47,其成分列于表1。它们由Howmet Corp. (Whitehall, MI, U.S.A.)提供,为直径15.5 mm的棒,并切割成1-2 mm厚的圆盘。用0.3微米氧化铝粉抛光,用酒精脱脂。 表1。合金的标称成分(at%)
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MJ12 |
平衡 |
47 |
2 |
2 |
- |
- |
MJ47 |
平衡 |
47 |
2 |
- |
2 |
0.8 |
等离子体系统用于氮化的电感耦合等离子体系统由射频功率发生器(Dressler型号HPG 1365)在13.56 MHz放电,以避免公共通信[21]的干扰。发电机通过匹配的网络连接到天线,工作功率为150和250 W。多功能特等离子体室由不锈钢制成,直径为31.2厘米,长度为42.5厘米,厚度为6.0毫米。箱体外表面嵌有永磁体按钮[22]。 Nitridat离子将标本置于多腔室中。抽气至0.05 mtorr压力,氩气入腔至0.5 mtorr压力。发电机以13.56 MHz, 150 W放电。提供-1 kV偏置电压7 min,清洗试样表面并关断。然后将氩气抽到0.05 mtorr,氮气注入腔内至0.5 mtorr。发电机工作在250 W,在-3、-4、-5和-6 kV的偏置电压下进行1 h的氮化。最后,关掉发电机的电源、偏置电压和氮气。将空气注入腔室,直至压力为1atm时,将试样带进腔室进行进一步分析。 Characterization在1 gf载荷和5 s停留时间下,对非氮化和氮化合金的努普硬度进行了10次测量,并计算了平均值和标准差。此外,合金的磨损率是使用销钉-盘磨损试验机确定的。测试参数如下:
销 |
3.175 mm半径WC球(r) |
负载 |
50岁的女朋友 |
磨损轨迹半径(R) |
4.0毫米 |
滑动速度 |
4.00 cm.s-1 |
滑动距离 |
20米 |
润滑剂 |
干 |
温度 |
25摄氏度 |
大气 |
环境空气 |
用光学显微镜测量了磨损轨迹的宽度,用标准几何公式计算了合金的体积损失。 磁盘卷损失=
在维=磨痕的宽度。然后确定单位距离的体积损失或磨损率。 使用扫描电子显微镜和在15kV下操作的能量分散X射线分析仪进行分析氮化合金。使用X射线衍射仪分析氮化合金。操作参数为45.0 kV,35.0 mA和Cu-kα作为目标。 结果和讨论在氮化过程中,氮分子分解成原子。有些原子进一步分解成离子和电子。有些变成了原子。离子的电荷是由发电机的功率控制的。由于供应到样本的负电压,腔室中的正离子加速到等离子体样本界面。界面处正离子的能量(E)为 E=QV. 在哪里: 问=离子的电荷和 V=负电压。 高能量的正离子渗透到合金基体中,并受到基体原子的排斥作用。在界面下方的一些深度处嵌入矩阵内部的离子。但对于电子,它们被加速到室的地壁。样本的表面含有更多的缺陷,并且原子的病症增加。从热力学的观点来看,系统的熵增加了。一些离子也能与主原子形成新的相。原子的排列顺序和所形成的新相对硬度和耐磨性有一定的影响。 氮化后的MJ12和MJ47的元素光谱如图1所示。两种合金上均有Ti、Al和Nb。在MJ12和MJ47上分别检测到附加的Cr和Mn。在MJ47上没有检测到B,因为它的原子质量很轻。结果与表1所示的合金成分一致。在氮化期间,分解成原子和离子的氮分子。离子渗透并嵌入合金表面。在两种合金上检测到另外的氮。在磨损痕迹上没有检测到氮,这表明沉积的膜非常薄。没有从WC球穿出的钨在磨损轨道上被检测到,显示来自球的磨损钨的浓度非常低。在氮化过程中,部分氮嵌入合金基体中,部分氮与合金元素形成新相。
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图1所示。(a) MJ12和(b) MJ47在不同偏置电压下氮化的元素谱。 |
根据图2所示的x射线衍射谱图,未检测到氮化物。氮的浓度可能太低而不能被检测到,或者氮只渗透和嵌入合金基体中。埋入氮的浓度可能太低而不能形成氮化相。检测到TiAl和Al相[23],表明分析对金属基体的深度进行了分析。
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图2.(a) MJ12和(b) MJ47在不同偏置电压下的x射线衍射谱。 |
图3中MJ12和MJ47的努普硬度随偏置电压的增加而增大。结果表明,氮和/或氮化相对未处理合金的硬度有一定的影响。未处理的MJ12和MJ47的努普硬度值为464.2±38.6和499.9±63.3 kg.mm-2,分别。在- 6kv时,MJ12和MJ47的计算硬度最高为891.3±51.6和899.8±47.1 kg.mm-2,分别。结果表明,等离子体沉积的薄膜厚度最高,合金的硬度得到了明显的提高。在硬度测量期间,在沉积膜的脆性表面上产生一些裂缝,导致凹口的对角线的误差和硬度值的误差计算。
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图3。非氮化和氮化MJ12和MJ47的努普硬度。 |
单位距离或磨损率的体积损失值如表2所示。经氮化处理的MJ12和MJ47合金的磨损率比未处理的MJ12和MJ47合金的磨损率大大降低了一个或两个数量级。磨损率的降低是氮的嵌入和/或氮的形成的结果。这导致合金表面的原子无序或缺陷。磨损率还受膜和基体的内应力控制,内应力会影响粘附性能[15-17]。由于WC球在试验过程中的振动,磨损率随偏置电压的增加而降低是不规则的。这导致了磨损轨迹宽度和计算磨损率的不均匀性。磨损率的不规律性也可以通过新相的形成来控制。 表2。MJ12和MJ47的磨损率。
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MJ12 |
非 |
14.210 |
|
-3 |
0.164 |
|
-4 |
0.132 |
|
-5 |
0.140 |
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-6 |
0.125 |
MJ47 |
非 |
14.166 |
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-3 |
0.542 |
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-4 |
0.416 |
|
-5 |
0.304 |
|
-6 |
0.292 |
在磨损试验中,摩擦系数(μ), MJ12的结果如图4所示。摩擦系数随针球的滑动距离而变化。在3kv氮化时,摩擦系数在前1.0 m内迅速从0增加到1.00。然后在此值附近出现波动,直到完成15.5 m。在-4、-5和-6 kV处,摩擦系数在非常短的距离内迅速增加到0.18,然后缓慢增加,直到达到平均值0.52。由于销球的振动、摩擦力的变化等原因,摩擦系数的变化是不规则的。结果与上述磨损率一致。
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图4.不同偏置电压下氮化MJ12的摩擦系数。 |
摩擦力(f)与WC球的加速度或位置的二阶导数(ü)的关系为: fαu 摩擦力由于其大小和方向的变化而不是恒定的。因此,加速度随力的大小而变化。这导致摩擦系数的波动。 氮化后的MJ12和MJ47的外部形貌如图5所示。合金的表面相当粗糙,表明合金通过沉积方法处理。表面的特征是一般的氮化作用,能对WC球的振动起到作用,导致合金的磨损率和摩擦系数的波动。
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图5。(a) MJ12和(b) MJ47在-6 kV偏压下的氮化表面形貌。 |
结论元素分析显示了嵌入合金表面中的氮的检测。但对于X射线衍射分析,没有检测到氮化物相。等离子体沉积可以有效地提高合金的硬度和耐磨性。在- 6kv偏压下,Ti-47Al-2Nb-2Cr和Ti-47Al-2Nb-2Mn-0.8TiB的努普硬度值2合金含量最高,为891.3±51.6和899.8±47.1 kg.mm-2,分别。与未处理的合金相比,在氮化后,耐磨性大大提高了一个或两个数量级。扫描电镜显示,合金表面粗糙,对磨损率和摩擦系数的波动起作用。 确认这项研究得到泰国曼谷泰国研究基金(TRF)的支持。我们感谢Howmet Corp., Whitehall, MI, U.S.A.提供的合金,并感谢prof . T. Vilaithong, FNRF, Department of Physics, Faculty of Science, Chiang Mai University, Chiang Mai, Th欧洲杯线上买球ailand, for permission to use the plasma deposition equipment, micro硬度和磨损测试仪。2020欧洲杯下注官网 参考文献1。R. L. Stedfeld:主任“ASM手册,性能和选择,有色合金和专用材料,第5个印刷品。,U.S.a。:ASM国际手册委员会,欧洲杯足球竞彩2(1998) 587。 2。“TiAl金属间化合物的等离子体渗碳处理”,材料科学与工程,vol . 32, no . 3, no . 4, no . 4科学。和女士。A213(1996) 157。 3.赵斌,孙军,吴建生,袁志贤,“TiAl基合金在氨气氛下的气体氮化行为”,材料工程,Scripta板牙。46(2002) 581。 4.余立国,“高温气体氮化的影响”TiAl论耐磨性”,J. of Mater。过程和汇率政策。科学。,6(1998) 185。 5.Tian W. h, M. Nemoto, " Carbon addition on the microstructure and Mechanical Properties .γ多弧离子镀合金”,Intermetal。,5(1997) 237。 6.R. Kainuma, Y. Fujita, H. Mitsui, I. Ohnuma and K. Ishida, " Phase equilibrium Amongα(HCP),β(bcc)和γ(L10Ti-Al基三元合金中的相”,金属间化合物,8(2000) 855。 7.王志强,“氮对Ti-48Al合金组织和力学性能的影响”,金属间化合物学报。9(2001) 147。 8.“超硬纳米复合材料Ti1-X.艾尔x磁控溅射制备N薄膜的研究365.(2000) 104。 9.S. Labdi,pH。Houdy,P. psyllaki和M.Jeandin,“用于硬涂装应用的Ti和TiN薄膜和Ti / TiN多层的阐述和表征”,薄固体薄膜,275(1996) 213。 10。S. Anderbouhr, V. Ghetta, E. Blanquet, C. Chabrol, F. Schuster, C. Bernard and R. Madar,“LPCVD和PACVD (Ti,Al)N薄膜的形貌和力学性能”,Surf。和外套。科技。115.(1999) 103。 11.陈志刚,“有机金属化学气相沉积(Ti,Al)N薄膜的热力学预测和实验结果”,清华大学学报(自然科学版)。和外套。科技。94 - 95(1997) 285。 12.王志强,“氮化钛和氮化铝的纳米结构和硬度的等离子体增强化学气相沉积”,固体薄膜,391(2001) 101。 13。K. Kawata, H. Sugimura, O. Takai,“脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(Ti,Al)N薄膜的表征”,薄膜材料,386(2001) 271。 14.K. Kawata, H. Sugimura, O. Takai,“脉冲直流等离子体增强化学气相沉积法制备Ti-Al-O-C-N多层膜的表征”,固体薄膜,390(2001) 64。 15.Y.Y.郭,J.F.林和C.F.AI,“氮化钛,碳氮化钛和碳化钛涂层的摩擦学特性”,薄固体薄膜,302(1997) 193。 16.魏超,林建峰,蒋同华,艾春飞,“氮化钛的摩擦学特性“碳氮化钛多层膜”,第一部分,涂层顺序对材料和力学性能的影响,“薄膜,381(2001) 94。 17.魏超,林建峰,蒋同华,艾春芳,“氮化钛的摩擦学特性钛碳氮化物多层薄膜“,第二部分,涂层序列对摩擦学性质的影响,”薄固体薄膜,381(2001) 104。 18.A.Kimura,T.Murakami,K. Yamada和T. Suzuki,“综合Ti的热压Ti-Al靶标1-X.艾尔xN薄膜的电弧离子镀法”,固体薄膜,382(2001) 101。 19.(21日(บ20.夏林,季海,孙敏,孙勇,马新宇,“氮-乙炔注入Ti-6Al-4V等离子体基离子的结构和摩擦特性”,摩擦学学报,225 - 229(1999) 835。 20.7 .王志强,“基于扩散碳氮化方法的钛表面改性研究”,材料科学与工程学报,vol . 32, no . 3, pp . 3 - 5。50(2002) 2693。 21。A. Anders, Handbook Plasma Immersion Ion injection and Deposition, John Wiley and Sons, NY,(2000)。 22。D. Boonyawan, P. suanpot和T. Vilaithong,“用于气态离子束产生的13.56 MHz多usp离子源”,Surf。和外套。科技。112.(1999) 314。 23。粉末衍射文件,无机相,搜索手册(HANAWALT),粉末衍射标准联合委员会,JCPDS国际中心衍射数据,1601 Park Lane, Swarthmore, PA 19081,美国,(1985)。 详细联系方式 |