在传统有源矩阵显示器中,驱动液晶层中单个单元的薄膜晶体管(TFT)是由沉积在玻璃基板上的非晶硅(a- si)形成的。使用非晶硅的优点是它不需要高温,所以相当便宜的玻璃可以用作衬底。缺点是,非晶体结构阻碍了电子的快速运动,需要强大的驱动电路。
在平板显示研究中,晶体或多晶(由许多小的连锁晶体组成的中间晶体阶段)的硅是一种更理想的材料。不幸的是,这只能在非常高的温度(超过1000°C)下产生,需要使用石英或特殊的玻璃作为基板。然而,在20世纪90年代后期,制造技术的进步使得低温多晶硅(p-Si) TFT显示器得以发展,这种显示器可以在450°C左右形成。最初,这些技术广泛用于只需要小型显示器的设备,如投影仪和数码相机。
标准TFT面板中最大的成本元素之一是外部驱动电路,它需要从玻璃面板大量的外部连接,因为每个像素都有自己的驱动电路连接。这需要分立的逻辑芯片排列在显示器外围的pcb上,限制了周围外壳的尺寸。p-Si技术的一个主要吸引力是晶体管效率的提高,使得驱动电路和外围电子成为显示器不可分割的一部分。这大大减少了单个显示器的组件数量。该技术将产生更薄、更亮、对比度更好的面板,并允许将更大的面板安装到现有的套管中。
实验
本文成功地对a-Si和低温多晶硅TFT-LCD面板进行了无损表征光谱椭圆光度法。使用HORIBA Scientific UVISEL椭偏光谱仪在1.5-5 eV光谱范围内以70°入射角采集椭偏数据。
采用椭偏光谱法对TFT-LCD器件的厚度和光学常数进行了表征。此外,还对磷硅材料的晶粒尺寸进行了研究。欧洲杯足球竞彩硅材料的光学常数强烈地依赖于工艺条件。欧洲杯足球竞彩
非晶态硅层的光学特性通常是使用Tauc Lorentz或DeltaPsi2软件材料库中包含的新的非晶态色散公式计算的。欧洲杯足球竞彩
多晶层通常采用有效介质近似法由c-Si和a- si的混合物建模。它可以确定层内的物质组成,从而确定结晶度。
a-Si板的特性
三层硅和一层天然氧化物被用来精确地描述该装置。椭偏技术的灵敏度允许对具有类似光学常数(约0.1)的材料进行表征,例如高沉积速率和低沉积速率(HDR/LDR)和掺杂的a-Si材料。欧洲杯足球竞彩
原生氧化 |
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掺杂αsi |
300∼500年,一个 |
HDR晶硅 |
1300∼1700年,一个 |
存贷比晶硅 |
One hundred.∼500年,一个 |
绝缘材料 |
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玻璃 |
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图1所示。α-Si板的表征
ltp的表征面板
厚度和光学常数的测定
下面的模型用于描述LTPS设备。LTPS TFT-LCD显示器使用激光退火技术生产高结晶硅薄膜。
原生氧化 |
LT p-Si (c-Si + a-Si) |
底物 |
在不同的激光功率下进行了多次实验。光学常数的变化表明晶体的结晶度随激光功率的增加而增加。
图2。激光功率示意图
图3。激光功率示意图
p-Si的粒度测定
p-Si的晶粒尺寸可由以下公式计算:
Γ:扩大参数
d:粒度
图4。增宽参数与反晶粒尺寸的关系
由该公式可以看出,随着激光功率的增加,9个样品呈现出两条明显不同的曲线。蓝色曲线表示LTPS层结晶度好的工艺参数;激光功率的可用能量范围比较宽。粉色曲线清楚地表明,在最佳能量以上,晶粒尺寸急剧下降。
下图显示了拉曼光谱和光谱椭圆光度法描述样品结晶度的技术。
图5。拉曼光谱的波段范围
图6。结晶度与激光功率
结论
椭偏分光光度法是一种对基于a-Si和LTPS技术的TFT-LCD显示屏进行高精度表征的优良技术。由于…的敏感性UVISEL光谱椭圆计和DeltaPsi2软件中包含的高级建模功能,可以在多堆栈中检测通过各种方法处理的不同a- si层。此外,椭偏光谱测量允许测定p-Si薄膜的晶粒尺寸,并说明具有高精度表征硅结晶度的能力。
这些信息来源于HORIBA Scientific提供的资料。欧洲杯足球竞彩
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