HORIBA科学-薄膜部门为研究、工业和质量控制应用提供先进的薄膜计量、加工和等离子体诊断仪器。
我们的核心技术包括:
无论是作为单一的技术或结合强大的定制解决方案。
薄膜计量解决方案
光谱椭偏仪
光谱椭偏仪可以精确地表征一系列特性,包括层厚、光学常数、成分、结晶度、各向异性和均匀性。对于单层和复杂的多层叠层,可以确定从几埃到几十微米的厚度。
现场椭偏仪
原位光谱和激光椭偏仪可以实时监测和控制亚单层分辨率的薄膜沉积和刻蚀过程。原位光谱和激光椭偏仪可实时计算不同环境下的薄膜厚度、光学常数和薄膜堆的组成。
全自动椭偏仪
自动光谱和激光椭偏仪如UT-300和PQ-Ruby提供生产线监控的薄膜厚度测量,光学常数和薄膜组成。提供先进的自动化、标准化和可靠的数据,以满足半导体行业对批量生产的先进要求。
大面积计量平台
平板计量系统集成了光谱椭偏仪和DUV光谱反射仪。它们允许精确和快速地描述薄膜厚度、光学常数和小到10微米的图案和多层材料的反射率。欧洲杯足球竞彩
现场过程控制
本信息来源、审查和改编自HORIBA Scientific提供的材料。欧洲杯足球竞彩
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