纳米图形和可视化引擎(NPVE)的特点和应用

纳米件和可视化引擎（NPVE）将双柱系统的能力扩展到新高度。作为Carl Zeiss系统的加载项，NPVE能够快速将纳米特征的特征从纳米到毫米，广泛控制图案化参数和极端视野，每张图像最多可视为1个Gigapixel，所有这些都在一个集成的直观的用户界面中。

NPVE将双16位扫描发生器技术和超采样信号采集硬件带一起，具有浮点向量扫描引擎。通过直观的用户界面操作，NPVE通过SmartSem进行图案化和自动控制，平滑地集成了FIB-SEM（CrossBeam®）和SEM，实时成像的同时控制，并通过Smartsem进行自动控制。简单的学习又极其强大，NPVE系统是解决广泛纳米透析和成像应用的选择。它的易用性允许新手用户开始在纳掩型中求解复杂问题，有或没有气体化学，快速且容易。

NPVE结合了广泛的灵活纳米透析能力，随着图案化光束产生的信号的越来越重要的可视化，带来了丰富的信息，这些信息补充了CrossBeam®仪器的现有成像功能。

除了NPVE的纳米模式特征之外，用户还可以在大小（32K x 32K）中获取高达10亿像素的图像，实现高分辨率，非常大的视野成像。其他选项允许自动采集和拼接大面积马赛克，从而创建许多连续高分辨率图像的蒙太奇。

1μm×1μm正方形的电子束沉积氧化硅柱。方形内的图案化角度设定为45°，选择间隔才能使柱子接触。

一种：600 nm直径的Fib沉积3D线圈。B.:储层和纳米通道，长20µm，宽200 nm。磨铣过程中的实时可视化可以实现从通道到油藏的平滑、平坦过渡。

林肯纪念馆的FIB灰度渲染，图案化成硅。未修改的照片用作数据源。总图案时间约为十分钟。

NPVE特性及应用

Array Builder.

使用NPVE Array Builder可以直接创建重复结构的数组。可以构造不同的数组样式，包括规则数组和径向数组。Array Builder已被证明是气体工艺优化不可或缺的，因为可以根据不同形状系统地改变各种参数，以快速设计实验。

用于电子束辅助沉积的4乘4个矩形矩形。停留点间距由行和柱子变化。

一种环状形状阵列的一部分，每个直径450 nm，形状之间有1µm间距(间距)。

使用10Pa离子束直接图案化25nm线的栅极的等距视图。

操作食谱

确定实现最佳结果的最佳图案化参数可能需要在新手用户的一部分中努力。

为了促进这一过程，NPVE配备了许多操作配方，其中封装了一系列束电流的最佳模式参数，用于许多常见任务，如精密铣削或气体基化学。

Nano-Pillar数组

波带片

纳米级通道结构

半圆环碾碎成钻石

用户只需选择一个适当的配方，它会自动将这些参数应用于任何形状，并使用“单击”。用户还可以使用操作配方编辑器修改或生成自己的食谱。

附加功能

除了显示的功能外，NPVE还具有许多额外的功能。请联系您的销售代表以讨论您的特定应用，以及NPVE如何协助您的申请取得成功。

npve特征

基本形状

NPVE有9个基本形状，可以使用或组合它们来创建更复杂的形状。每个形状都由完全可编辑的节点和段组成，使用过图形软件的人都熟悉这种方式。

NPVE还配备了文件导入器，可以以几种行业标准格式读取和转换2D图纸。

基本形状列表：

• 长方形
• 椭圆
• 戒指
• 线
• 折线
• 多边形
• 梯形
• 文本
• 点

模式参数

选择最佳图案化参数大大影响了实验的结果。因此，NPVE接口在优化梁在样本中移动的方式提供高度的灵活性。实际上，可以设置与波束定位有关的所有参数 - 或者用户可以选择先前定义的操作配方，然后将自动设置所选形状的图案化参数。

空白的形状

使用“void”形状，NPVE提供了一种方便的方法，以防止临界样本区域由光束图案化。任何填充的形状都可以变成空隙。反过来，任何接触空隙的形状，然后将包含从图案化中排除的全部或一部分的区域。

并行模式

与连续完成一个形状然后再移动到下一个形状相比，并行塑造多个形状具有明显的优势，特别是在使用气体化学或磨铣高纵横比结构时。NPVE支持所有形状或选定形状子集的并行或串行图案。

矢量扫描形状

传统上，形状是用类似光栅的扫描算法填充的。NPVE支持这种传统样式(实际上允许指定任意扫描方向)，但它也支持形状轮廓的矢量扫描。轮廓扫描可用于完全填充一个形状，或以平滑地跟随形状轮廓的方式跟踪形状的周长。轮廓扫描可以设置为中心、插入或开始对齐，或以指定的厚度，或填充形状的点。与其他地方一样，NPVE允许完全控制模式参数，如沿着每个“路径”和“路径”之间的驻留点间距，如何斜切角，等等。

驻留点模拟50%重叠，10倍对称的轮廓形状

设置操作

使用NPVE SET操作创建复杂形状更容易。各个形状可以与SET操作组合，以创建外汇的联合，差异，交叉点，XOR或剪切版本的形状。每个派生的形状保持完全可编辑，并且通过所采用的特定设置操作确定新节点。使用SET操作，可以消除重叠形状和产生的错误双重计量误差。

图案款式

所采用的特定扫描策略对所达成的结果产生重大影响。NPVE图案化样式允许用户指定一系列扫描策略。

抵消填充

光斑大小、材料再沉积、气体沉积或蚀刻速率等都会导致最终形状略大于或小于拉伸形状。每个形状都有一个Offset参数，一旦针对特定的操作进行校准，NPVE就可以自动收缩或扩展形状，以满足精确的尺寸公差要求。

实时视图图案

从绘图光束的角度来显示绘图过程，而不仅仅是用扫描电镜观察，同时用FIB进行铣削，已被证明是FIB纳米绘图成功应用的关键。

在深孔底部切割纳米线切割的实时视图。

NPVE在图案化的情况下显示形状的实时“变焦视图”图像，允许精确对准，漂移校正和图案化过程的观察。

fib text.

为方便地跟踪数据，所有实验都可以使用FIB文本选项轻松地标记为原位。所有MS Windows™字体可用，文本可以以与任何其他形状相同的方式图案，包括应用操作配方以使能气体化学物质。

FIB文本注释实验条件

图像叠加

在某些应用中，通过覆盖先前获取的图像或来自诸如光学显微镜的另一个源的图像，可以使形状的精确定位更简单。NPVE支持图像覆盖，对齐和透明度调整。

这些信息来源于卡尔蔡司显微技术有限公司提供的材料。欧洲杯足球竞彩

有关此来源的更多信息，请访问卡尔蔡司显微镜有限公司。