电感耦合等离子体源提供改进的刻蚀速率和控制

高密度等离子体源比传统的平行板等离子体系统有许多优点。

传统系统的缺点

在传统的RIE中，等离子体密度受到耦合射频能量的限制。这就限制了某些材料沉积或蚀刻的速率。欧洲杯足球竞彩这个特殊的问题在低压下变得非常严重，在低压下由于RIE效率，等离子体密度变得非常低。传统RIE等离子体源的等离子体密度通常在0.5 - 5.0 x 1010 cm-3范围内。这些源通常显示出等离子体密度和蚀刻速率随压力的变化而降低。当使用电感耦合等离子体源时，它允许更高的等离子体密度，因为功率通过电感耦合产生的磁场转移到大块等离子体中。低压处理在许多方面都是有益的。它能够在高长宽比结构中严格控制各向异性，并减少微加载的影响。

电感耦合等离子体源的优点

电感耦合等离子体源比其他高密度源有以下几个优点:

• 设计简单
• 对操作压力要求不太严格
• 不需要磁场
• 在比微波系统更低的频率下提供的射频功率

电感耦合等离子体的应用

这种感应等离子体的典型应用如下:

• 氧化
• 硅深沟
• 聚酰亚胺
• 多晶硅
• 受辐射影响的有源器件

下图显示了一个带有ICP选项的Trion系统。

图1所示。Minilock-Phantom III反应性离子蚀刻机，带有真空加载锁。

结论

有可能获得增强的蚀刻速率和剖面控制，增强的选择性，改善的均匀性和急剧减少污染和辐射损伤的RIE溅射。

这些信息已经从Trion技术提供的材料中获得，审查和改编。欧洲杯足球竞彩

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