纳米技术正在通过巨型进展，半导体工业朝向更小和更小的部件。这激发了需要更高分辨率和放大的需求。扫描电子显微镜或SEM广泛用于观察曲面特征，在200,000倍的范围内。在SEM成像中的分辨率和放大的主要原因之一是由于SEM真空室中的氢污染是由于氢污染。当污染沉淀在分析物表面上时，由于与电子束的相互作用而形成聚合，并且形成非导电层，当成像看起来像黑色矩形时，不允许可靠的测量。
SEM清洁设备 - GV2020欧洲杯下注官网10x DS AsherTM值
IBSS组介绍了GV10x下游（DS）asherTM值2009年，用于去除cd - sme和Review sme中的碳氢化合物污染的半导体行业。由于这些半导体电晶体是为研究大型半导体晶圆而设计的，因此它们的真空室尺寸比标准半导体电晶体大得多。因此，行业需要一种更有效的碳氢化合物清洗技术，GV10x DS Asher实现了这一要求。
该设备具2020欧洲杯下注官网有创新的专利设计，能够在比其他商业上可用的污染除去系统更小的压力下运行。因此，可以均匀地从大腔室均匀地除去碳氢化合物。除了清洁CD-SEM的大型腔室并查看SEMS，IBSS还报告说，也可以有效地清洁标准SEM。由于该设备高效，因此系2020欧洲杯下注官网统的停机时间显着降低。GV10X的清洁周期涉及用户准备SEM的时间进行清洁，清洁SEM并允许SEM返回其正常操作模式。随着GV10X在涡轮分子泵运行的压力下操作，该清洁循环基本上减小。
案例分析
德国慕尼黑英飞凌的杰拉尔德Neumann使用GV10x从他的SEM中取出碳，他用于研究半导体元件。如果未使用GV10X，则仅在200,000倍倍率下扫描的1分钟将导致碳氢化合物污染，这将完全阻挡被检查的表面。
清洁仅10分钟后，观察到，在200万倍倍率下扫描为1-2分钟，没有任何污染效应。根据Neumann先生的说法，GV10X的清洁非常迅速有效。清洁可通过有源涡轮分子泵进行，并开始在不通风腔室的情况下开始。
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图1。扫描电镜扫描时间为1分钟，放大倍数为200000倍。左侧图像在GV10x清洗前拍摄，右侧图像(样本的不同部分)在清洗5分钟后拍摄。(由英飞凌科技)
Pierre Hovington在加拿大的Hydro Québec也使用了GV10x，他在那里使用扫描电子显微镜检查粒子。欧洲杯猜球平台他观察到，如果样品被检查的时间越长，扫描电镜上的图像对比度就会降低。此外，在高倍检查的情况下，指示碳氢化合物的黑色区域，将在样品上看到。用GV清洗扫描电镜10倍后，不再见对比度损失。样品上的黑暗区域也被移除了。在扫描电子显微镜下，ibss GV10x DS等离子体清洗系统对碳氢化合物污染是非常有效的。这对于现场分析是非常重要的，该系统可以在相对高的真空下使用，允许在不冷却/重新加热物镜孔径的情况下对现场样品进行去污。
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图2。在30分钟GV10x清洗前(左)和后(右)检查2小时时的EM图像。(礼貌水电-魁北克)
结论
IBSS集团介绍了一种新的和更有效的方法，可以使用GV10x从SEM和其他分析系统中除去烃污染。案例研究证明了GV10 X是SEM清洁的高效工具，并将使能获得改进的分辨率和SEM的放大倍数
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