在线PVD溅射系统中，基板在一个或多个溅射阴极下线性传递，以获得它们的薄膜涂层。通过将基板加载到载体或托盘上来促进该运动。较小的系统能够仅处理每个批量运行一个托盘，但是使用最终站托盘处理程序可以处理多个托盘，该托盘处理程序在通过运输子系统的持续的车队中以另一个方式发送和接收托盘，以便穿过运输子系统，其中每个尖端都在前面的尾部后面。
水平配置
最常见的和最复杂的设置是使阴极和托盘在底部的底部和阴极上水平，溅射倒置取向。在这种配置中，将基板保持在托盘上，并且托盘通过重力保持在输送机构上。运输机构只能通过真空室沿着轨道运行的链条。
水平布置也可以在溅射上进行，其中顶部和底部的阴极上的基板。然而，这种配置需要机械装置将基板保持在适当位置以避免其落下。这种布置不常用于单侧涂层，但有时用于双面涂层，其中阴极放置在托盘上方和下方。在这种情况下，托盘具有适当的开口，以将基板保持在适当位置，以便在底部底侧从下部阴极获得溅射涂层，同时同时从上部阴极上获得顶侧的溅射下涂层。然而，水平排列确实在腔室内产生的颗粒具有缺点。在溅射模式下，这些颗粒可以容易地嵌入在其着陆在基板上之后的薄膜中。在溅射模式下，这些颗粒不会在基板上降落，但可以通过降落欧洲杯猜球平台到目标来重新溅射。
其他配置和功能
侧溅射的垂直方向选项提供更好的颗粒环境。在这种情况下，托盘和阴极都放置在垂直位置，但沉积是横向的。然而，工具和运输系统的复杂性基本上增加，以便将基板保持在托盘上并保持托盘处于该方向上。这种布置减少了颗粒的机会被落地在基板或阴极上。欧洲杯猜球平台在任何这些配置中，可以采用许多不同类型的阴极和功率。此外，还可以容纳诸如溅射蚀刻，热或离子源的可选阶段。完整的仪器仪器和控制套件可用于溅射应用，例如光学涂层，电介质和金属/导电涂层。
尽管可以使用其他类型，但是这种系统中使用的最流行的阴极形式是矩形的。此外，即使阴极可以被配置用于有意均匀的涂层，大多数用户也希望它们的基板均匀涂覆。在一条在线系统中，托盘行进方向上的均匀性依赖于腔室压力/气体混合物和阴极电力的稳定性，以及运输速度的稳定性和前方的起始/停止位置在沉积区的后部。
对于单个托盘，或者对于尖端的第一和最后一个托盘连续运行，开始以及停止位置的开始必须从靶下方井下出来，以防止在任何预溅射稳定期中施加意外沉积，在开始扫描之前。在实际沉积区外，必须发生任何启动，停止或扫描方向的逆转，并且扫描必须通过沉积区稳定和连续。扫描可以在任一方向上或来回扫描到累积厚度。
通常使用三个和四个目标系统，并且可以在需要时增加腔室长度以容纳附加源。在阴极上具有不同的靶材料，因此可以在单次通过欧洲杯足球竞彩或用重复的靶中沉积多层，可以在单次通过中实现更厚的涂层。通过对托盘的扫描方向成直角的另一个轴的均匀性通过阴极的性能来识别，特别是对于反应溅射，可能的气体分布问题。沿着目标长度的中心，均匀性和利用均可均足够好。然而，在“赛道”路径转动的端部处，除非调节磁体以补偿磁体以补偿，否则沉积速率和膜厚度将降低。然而，如果这样做，因此由于侵蚀通道的深化而降低了目标利用率。
提示尾巴方法
尖端到较大的多托盘系统中的尾部处理是有利的，可用于目标材料利用。在尖端到尾部的方法中，一个尾部和下一个尖端之间的间隙非常短，并且物料将再次充满基板的“活”托盘。当前托盘退出沉积区时，新托盘进入。与单个托盘相比，尖端在材料使用中的尾部方法的效率可能几乎是两次。
结论
可以定制在线溅射系统以适应各种基板尺寸和工艺要求。
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