夸型水晶监视器的应用控制薄膜沉积

薄膜沉积是真空过程,用于在许多不同物体的表面上涂覆纯材料的涂层。欧洲杯足球竞彩涂层或薄膜通常具有微米和埃的厚度范围,并且可以是层叠结构中的单一材料或多种材料。欧洲杯足球竞彩本文介绍了控制厚度和速率所涉及的基本原则通过石英晶体监测薄膜沉积,特别是通过蒸发讨论PVD的共沉积和多晶硅系统。

石英晶体监测

这种类型测量和控制的关键概念涉及将振荡器晶体安装在真空室内,以便实时接收沉积,并且晶体以可测量的方式受到沉积的影响。当由沉积在该材料上的材料的晶体的质量增加时,振荡频率将有一个振荡频率。

通过电子仪器连续地记录振荡频率的变化,然后通过执行适当的数学函数将频率数据转换为薄膜沉积厚度数据。数据包括瞬时速率和累积厚度。

在市场上容易获得这种传感器和设备,包括许多不同的集成模型,不仅可以监视和显示厚度和速率数据,还可以提供薄膜沉积系统的控制功能的输出。虽然特征通过模型不同的型号,但大多数系统都能够处理多个独立的晶体振荡器,其中一些也能够控制多个同时源。

薄膜沉积系统的大部分仅具有一次操作的单个源,即使像多口袋E光束源等这样的东西能够具有许多可用于连续选择和用法的不同材料来创建多层胶片。欧洲杯足球竞彩然而,多晶体传感器可以定位在腔室周围以平均其信号以便更好地控制。

单晶具有多个晶体的优点

使用单晶的问题是,当它达到正确的厚度时,它将通过关闭快门来停止薄膜沉积过程。因此,在基板上实现相同的平均厚度的机会非常有限。

为了处理这个问题,可以在位置安装有几个晶体以获取来自所有位置的信号并为控制功能平均出来。这可以由控制器模型执行。

即使是单晶也有详细的地址,例如校准其厚度读数。尽管如此,它只能监视直接落在自身上的薄膜沉积。但是,这实际上并不是用户想要理解或控制的。

基板上的内容是用户感兴趣的主题。因此,必须执行物理测量以比较晶体读数并计算和编程校准因子(通常被称为“工具”因子)以进行后续验证。具有多个晶体,这成为对它们中的每一个执行的要求,提供“加权”它们的选择,使得一个传感器比另一个传感器更重依赖。

共沉积控制

通过同时操作两个来源来形成共沉积以形成两种材料的混合层。欧洲杯足球竞彩在这种系统中,无疑有一些变化。

例如,腔室中的两个E射线枪不能共享相同的物理空间,并且不能在腔室中心的完美位置 - 用于薄膜沉积设备的设计考虑因素。2020欧洲杯下注官网然而,对于共沉积控制,每个源必须具有其自身的晶体传感器,并且优选地,任何传感器都必须能够“看到”另一个源以避免它们之间的交叉谈话,这导致控制精度丢失。

因此,必须包括对传感器安装的物理屏蔽,以便具有其预期源的清晰视图,而是对另一个源的视图没有视图。通常,可能需要一些屏蔽来防止材料的交叉污染并避免在E梁的情况下磁干扰。欧洲杯足球竞彩在解决所有这些问题之后,具有具有正确能力和具有两个来源的适当室的合适的晶体控制系统,共同沉积在胶片编程方面具有一些关键问题。

两种材料的预调节阶段和斜坡和浸泡设置可能是不同的。欧洲杯足球竞彩尽管如此,总时间必须与另一个快门在另一个快门上打开,使薄膜以单一材料模式开始而不是共沉积。

晶体控制器通常是基于厚度的。因此,如果需要质量,那么它应该考虑到它。此外,必须通过该过程保持相同的速率比为最终厚度比;否则,快门的关闭将不会在最后的同时发生,导致在关闭时共沉积的停止。

无论过程类型如何,无论单层,多层还是共沉积,都有可能的可能性在薄膜沉积运行时晶体失效。某些型号的传感器头可以容纳一个或多个备用晶体,这允许它们在晶体故障时自动将其变为新晶体,如果该功能也由控制器支持。

控制器将考虑电力驱动电平,沉积速率和累积厚度时的最后一个已知的数据点,并且盲目地保持相同的电源驱动并采用相同的恒定沉积速率以实现预设的最终厚度,然后触发快门关闭。

结论

在报废所有基板的情况下,需要考虑各种其他因素。在这种情况下,可能会更好地抓住“时间力”来拯救它们。Quartz Crystal Monitoring的许多功能具有更多的特点,并控制薄膜沉积,并且可以从仪器用户手册中获得任何附加信息。通过所有方式,石英晶控制是一种非常有用的PVD技术。

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