这振动图®2振动抛光机来自Buehler的设计在机械制备后制备无变形表面。与电抛光不同，该装置不需要危险电解质来消除表面的应力。
当与Mastermet 2发生连体二氧化硅时，该器件化学机械地抛光样品以适应原子力显微镜（AFM）或电子反向散射衍射（EBSD）实验。
振动图®2水平振荡以增加抛光布和样本之间的接触时间。在配置设备时，标本在抛光碗周围自动开始旋转。
主要特征
振动图的主要特征®2振动抛光机包括：
- 305mm直径抛光碗允许同时制备18个标本
- 通过振动作用自动旋转标本
- 水平振荡确保高质量的抛光和无压力表面
- 消除了危险电解质的需要
- 总体胶体二氧化硅的整合促进了样本的化学机械抛光
- 为非均匀和混合材料样品提供更好的结果
- 定制表面光洁度适用于EBSD或AFM分析