埃斯特罗姆工程提供低压化学气相沉积(LPCVD)系统这是专为满足碳纳米管和石墨烯研究的高温需求而设计的。
为了满足这些需求，Angstrom开发了一种水冷炉，可以达到1100ºC的温度，但可以快速冷却。从Φ2in和Φ8in可以获得不同尺寸的腔管，因此可以处理单个小样品到6英寸晶圆的批次。
为了满足石墨烯、碳纳米管和其他二维晶体日益增长的研究市场的需求，Angstrom开发了一种独特的系统，可以实现精确的过程控制和过程灵活性，同时保持用户的安全作为基本功能。此外，一个完整的联锁系统确保用户免受高压，工艺气体和高温存在的系统。
在PLC或计算机断开连接的情况下，心跳传感器可以确保系统处于安全可靠的状态。在全自动化的过程控制系统的帮助下，用户可以轻松地建立，存储和执行复杂的配方，通过24英寸触摸屏界面多达50步。对于每一个流程，数据日志存储，可以通过USB接口下载，并使用所需的办公软件进行研究。
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关键特性
- 压力控制/气体输送:多达12个质量流量控制器;下游压力控制从100mTorr到500Torr，使用节流VAT蝶阀。
- 温度控制:单区石英灯炉，6”均匀温度区;自动调谐功能，稳定的温度控制;10米内快速加热至1100ºC;快速冷却1100ºC ~ 800ºC / 2m。
- 安全电路(软硬件)
- 封闭式框架和安全防护
- 易燃气体传感器(H2)
- 数据记录、可编辑食谱和密码保护的访问控制
- 24英寸触摸屏用户界面，允许简单的配方创建和查看测试结果
- PC/PLC控制器包括基于windows的配方和控制软件
反应堆规格:
- Φ50到Φ200mm石英管腔
- 可以根据需要使用和改变不同尺寸的石英管
- 下游端法兰，可快速连接到泵和压力表
- 上游端法兰，可快速连接到气体歧管
- 可容纳独立或多衬底高达150mm x 150mm
- 定位叉使安装法兰和管道安全快速连接成为可能