Gatan的精密蚀刻涂层系统(PECS™是一种台式宽束氩铣刀，设计用于处理样品的涂层和抛光。这两种程序可以在不破坏真空的情况下对同一样品进行。
PECS II系统是一个完全独立的台式工具，使用两根宽氩束进行表面抛光和消除损伤。该技术适用于扫描电子显微镜(SEM)、光学显微镜或扫描探针显微镜(SPM)生成高质量的样品。这些样品是理想的成像，能量色散x射线能谱(EDS)，阴极发光(CL)，电子束诱导电流(EBIC)，电子背散射衍射(EBSD)和其他分析方法。
PECS II系统使用专利WhisperLok®具有温控液氮冷却阶段的技术(可选)。该功能有助于检查与传统铣削工艺相关的样品熔化或结构变化。
PECS II系统集成了一个10英寸的触摸屏，以增强控制和抛光程序的再现性，无论是初学者和专家用户。数字变焦显微镜实时监控抛光过程，并在数字显微图中保存彩色图像®软件进行审查和调查，而样品是在SEM。
关键特性
- WhisperLok系统可以加载和卸载样品，而不排气的主腔
- 磨损敏感表面，包括氯或EBSD，使用低能量聚焦penning离子枪
- 从0.1 - 8.0 keV的可变能量:可调的低能铣削减少非晶层和更高的能量提高铣削速度
- 液氮样品冷却可以去除诸如镓迁移和氧化等工件
- 10英寸彩色触摸屏控制，快速，容易访问所有控制参数，不需要电脑
- 数字变焦显微镜瞬时操作铣削
- 数字显微图像软件中的彩色图像存储有助于存储和应用光学图像，以便与其他分析系统相关联
- 溅射沉积是可能的，目标材料被溅射到样品表面，以减少或保护SEM中的电荷
应用程序
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规范
| 离子源 |
|
| 离子枪 |
两个装有稀土磁铁的离子枪 |
| 磨角 |
±10°，各枪独立可调 |
| 离子束能量(keV) |
0.1 - 8.0 |
| 离子电流密度峰值(mA/cm2） |
10 |
| 硅磨铣速率(µm/h) |
90 |
| 光束直径 |
使用气体流量控制器或放电电压可调 |
| 样品阶段 |
|
| 样品尺寸(深×高，毫米) |
32 x 15 |
| 旋转(rpm) |
1 - 6 |
| 光束调制 |
单、双，范围可调 |
| 查看 |
数码变焦显微镜与PC和数码显微镜存储(选配) |
| 真空 |
|
| 干泵系统 |
两级隔膜泵背靠80l /s涡轮拖曳泵 |
压力(托)
基地
操作 |
5 x 10－６
8 x 105 |
| 真空计 |
主室冷阴极式
固态备用泵 |
| 样品气闸 |
WhisperLok技术 |
| 标本交换时间(min) |
＜1 |
| 用户界面 |
|
| 10英寸彩色触摸屏 |
操作简单，完全控制所有参数和配方操作 |
| 尺寸和公用事业 |
|
| 外形尺寸(长×宽×高，mm) |
575 x 495 x 615 |
| 装船重量(公斤) |
45 |
功耗(W)
在操作过程中
枪了 |
200
One hundred. |
| 通用100 - 240 VAC (Hz)的电源要求 |
50 - 60 |
| 氩气(psi) |
25 |
规格可随时更改。