促使

推动PVD系统是多室分解系统,它使用具有经济高效的模块化设计,便于轻松的配置来匹配一系列薄膜分解应用,主要用于研发或小批量生产。

最多三个处理腔室,每个腔室都是针对特定应用单独配置的,共用用于处理多个基板形状并尺寸高达200mm的中央负载锁定。

该系统具有集成的计算机控制以及基于指令的操作,数据记录和公差检查。

可以使用完整的标准替代品列表来配置Impel PVD系统为了匹配用户的特定需求。还提供舞厅或舱壁安装。

Impel PVD沉积技术

Impel PVD.沉积技术如下:

  • 电子束蒸发
  • 瞥眼(高兴)
  • 脉冲激光沉积(PLD)
  • 磁控溅射:DC,脉冲DC或RF
  • 阴极电弧等离子体沉积
  • 有机蒸发:用于有机电子和镀层/ OLED

主要功能和选项

主要特点和选项推动PVD系统如下面所述:

  • 泵送:低温或涡轮分子
  • 真空室:最多三个独立的加工室,直径为16或24英寸,由不锈钢制成,以适应特定的应用。后室门门以提供服务和维护
  • 铝制门与视口(标准)
  • 基板保持器:旋转基板支架可以冷却,加热或偏置
  • 装载锁:自动或手动传输,不同的基板形状和尺寸高达200毫米,真空泵高
  • 气体和压力控制:动态压力控制,单或多MFC气体通道
  • 监控:光学监测,晶体监测和特殊数据收集软件,用于胶片沉积的原位测量
  • 离子源:IBAD辅助沉积,预清洗,铣削

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安德烈斯特,博士,高级科学家,劳伦斯伯克利国家实验室

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