这eline plus从莱特斯被认为是用于研究中心和大学的最佳，广泛分布的系统，希望将电子束光刻系统与开放式平台融合，以便在单个工具中进行额外的可选纳米制作方法和方法。用于FEBIP工艺的气体喷射系统，完全掺入纳米操纵器，例如纳米侵入和各种附加选择补充了无散装的光刻系统架构，并允许ELINE Plus成为世界上最独特且通用的纳入EBL系统。
ELINE加产品详情
主要应用
- 纳米光刻
- 纳米工程
- SEM成像和分析
- 纳米尺寸，纳泊植物，纳米植物
- 聚焦电子束诱导过程（FEBIP）
柱技术
- 双子座
- 电子
- 30 kV.
- inlente se探测器
- 能源选择性BSE（ESB）探测器选项
阶段
独特的写作模式
Gemini型E-梁柱，用于最广泛的纳米工程应用带宽。图像信用：raith
纳米工程，纳米尺寸和聚焦电子束诱导过程（FeBip）
- 广泛的纳米制作过程
- 改进的TFE电子柱提供世界上最小的光束尺寸
- 可升级和开放平台概念
- 独特的缝线无错误写入模式，traxx和evendixx
- 多种探测器概念，用于标记识别，分析和成像应用中无与伦比的灵活性
- raith nanosuite：全软件接口，所有模块完全集成
可扩展的研究工具概念
ELINE PLUS模块化可扩展的研究工具概念允许用户升级和调整其系统，即使在购买系统之后也会长期以来纳米研究的现有趋势。Eline Plus，通过跨越“经典EBL应用范围”，使跨学科活动成为几个研究领域。
由EBL系统产生的最小电子束尺寸为1.6nm表示，用于分析超出边界的最大分辨率的纳米制备的必然前提条件 - 无论是在纳米线或其他聚焦的电子束诱导的过程（FEBIP中）。
Twinlith - 结合EBL和FIB的优势
当雷伊特电子束光刻工具与raith聚焦离子束系统集成时，提供了下一代纳米制剂的完美解决方案。自从此以来raith系统共享软件和硬件平台，可以实现2D EBL抗蚀剂加速光刻和3D直接FIB图案的完美协同作用。共享光刻架构允许轻松交换GDSII设计，作业列表和样品架，从而允许高效和高级纳米制作。
这两个独立和互补的系统允许在不损失时间或损害纳米制作方法的整个益处的情况下平行加工额外的纳米制作任务。可以以同时方式用两只手写作，充分利用每个工具的刀具，用于图案化，工艺开发和控制。
ELINE加纳米光刻应用
HSQ电子束抗蚀剂中的5个M线（图像信用：J. Yang，D. Morecroft，M. Mondol，K.Berggren，Mit和J. Klingfus，Raith USA）
金属横向旋转阀（图像信用：F. Casanova等，CIC Nanogune，San Sebastian，西班牙）
密集装置：1 KB Crosspoint RRAM（图像积分：美国密歇根大学Sunghyun Jo）
先进的EBL：膜上的光子晶体结构（爆发）（图像信用：英国圣安德鲁斯大学威廉·厄兰 - 科廷）
Nanogratings的确切神经态指导（图像信用：Laboratorio Nest Pisa，Nano Lett。2011,11，505-511）
ELINE PLUS纳米工程应用
自由悬浮的Pt-纳米线纳米植物，沉积在带有Ebid的金接触垫上
电子束诱导沉积的3D纳米级（Ebid）
EBID-沉积纳米法测定法，用于生长速率测定（raith）
与能量选择性INLENS BSE检测器的材料对比
