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纳米透明理清基准：Elphy Multibeam

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莱斯特窃贼多阵线为SEM和FIB-SEM纳米线刻度解决方案建立新的商业标准。它结合了基于3D离子束的纳米制作和其他3D纳米制作技术的最新技术，具有出色的EBL性能，并有助于解锁SEM，FIB-SEM或HIM系统的总纳米制作电位。

Emby Multibeam包括综合多种方法纳米块技术在电子束光刻（EBL）的单个工具中，聚焦离子束纳米射频，蚀刻和沉积，氦离子束图案化和气体辅助聚焦电子束引起的处理（FeBip）。

ELHY MultiBeam产品详情

主要应用程序

SEM光刻
（3D）快速纳米原型设计
纳米光刻
FIB-SEM纳米光谱和纳米透射仪
氦离子显微镜 - 他 - 光刻

附件

附加到分析SEM，FIB-SEM或HIM供应商仪表

阶段

取决于分析FIB-SEM，SEM或HIM供应商

纳米光刻“笔” - Elphy将您的SEM或FIB-SEM变成纳米制作系统。

纳米光刻“笔” - Elphy将您的SEM或FIB-SEM变成纳米制作系统。图像信用：raith

未经讲话的可能性

免费全球支持基础设施，用于广泛的纳米制造和纳米光刻应用
完整的现场系统安装和培训
灵活升级（折价）概念，可访问整个raith产品线
具有低噪声差分输出的X和Y主光束偏转（16位）的最大速度20 MHz双DAC寻址（16位）
通过用户身份验证和相关的特定系统参数管理真正的多用户管理;用户发现他们的系统离开它
单独的热稳定和RF屏蔽19“电子单元，具有DSP技术，提供关于最大精度，最低噪声和长期稳定性的最终性能，从而实现复杂的应用
准确六个额外的乘法16位DAC，用于多级光刻，最大精度覆盖对齐，以及带有子NM级尺寸控制的写字段校准
多I / O信号路由器带有触摸屏显示，用于简单的自动或手动信号切换Enthy和其他辅助器与EDX / WDX / ...共享相同的外部扫描输入。
Flexposure定向扫描模式，灵活的图案化属性管理器，配方管理器和GDSII图案化 - 图像（POI）功能
易于使用，完全集成的raith nanosuite软件
专用的纳米产品接近效果校正和先进的3D光刻软件模块，校准标准，测试样品，入门套件和其他附件可用

依靠领域经过验证的技术并为未来做好准备

EMPHY纳米扫描和纳米制作升级套件是通过加速FIB-SEM，SEM和他来进入电子和离子光束光刻域的完美，最灵活和成本效益的解决方案。轨道记录约为约〜1000安装，Emhy是市场上最广泛分布的SEM / FIB光刻附件。raith nanosuite软件组合成窃弦以及进入全raith系统，维护过程兼容性并升级简单。