的PICOSUN®R-200先进ALD系统设计用于多个应用领域的研发，如IC组件、led、显示器、激光、MEMS设备和3D物体，如透镜、珠宝、硬币、光学和医疗植入物。
技术特点
典型的衬底尺寸和类型
- 3 d对象
- Mini-batch
- 粉末和颗粒欧洲杯猜球平台
- 50- 200mm单片晶圆片
- 156毫米x 156毫米太阳能硅晶圆
- 多孔，透多孔，高纵横比(高达1:2500)
加工温度
- 50 - 500°C，等离子450°C(650°C带加热卡盘根据要求)
典型的流程
- 艾尔2O3.、SiO2高频振荡器,2,助教2O5氧化锌,ZrO2, AlN TiO2、TiN、Pt或Ir等金属
衬底加载
- 用气动升降机手动装载
- 盒式到盒式的装载与集群工具
- 带搬运机器人的半自动装车
- 负载锁定与磁性机械臂
前体
- 液体、固体、臭氧、气体、等离子体(*)
- 多达12个源，6个单独的入口(如果选择等离子体选项，则为7个)
选项
- 簇工具，RGA，特高压兼容性，卷对卷室，Picoflow扩散增强器，N2发电机，定制设计，气体洗涤器，惰性负载手套箱集成
(*)等离子发生器技术特点:
- 远程等离子体源安装在加载室，并与反应室连接
- 蓝宝石喷射器适用于不同的化学物质，具有优异的粒子性能
- 商用微波等离子体发生器，功率可调300 - 3000 W，频率2.45 GHz
- 中间空间的保护气体流动(没有等离子体物种的反向扩散)
- 在不改变系统硬件的情况下，可以在同一沉积运行过程中进行等离子体和热ALD循环
- 以下相关标准用于评估电源的符合性:DIN EN ISO 12100:2011-03, DIN EN 60204-1:2007-06, DIN EN 61000- 6:20 06-03, DIN EN 61000- 6:4 - 2011-09
- 该电源已经开发和制造，以满足SEMI S2-0310规定的要求
的PICOSUN®R-200先进ALD系统是先进ALD研究工具的国际市场领导者，拥有众多客户安装。它已成为专注于创新的公司和研究机构首选的工具。
灵活的设计使ALD薄膜沉积具有最大的质量和最大的系统灵活性，以适应未来的要求和应用。专利热壁设计，具有完全独立的入口和仪器，使无颗粒处理适用于3D物体、晶圆和所有纳米尺度特征的广泛材料。欧洲杯足球竞彩由于Picosun专有的Picoflow™技术，即使在最坚硬的透孔、超高纵横比和纳米颗粒样品上，也能获得优异的均匀性。
的PICOSUN®R-200先进系统配备了功能强大且易于交换的气体、液体和固体化学品前体源。极其高效和专利远程等离子体选项，使金属沉积没有等离子体损伤或短路的风险。与手套箱、手动和自动装载机、特高压系统、集束工具、卷对卷室、粉末室和各种现场分析系统的集成，使得无论当前或未来的研究领域是什么，都能够高效、灵活地进行研究，并取得良好的结果。