的PICOSUN®R-200标准ALD系统设计用于处理众多应用的研发，如MEMS设备、IC组件、显示器、激光、led和3D物体，如透镜、硬币、珠宝、光学和医疗植入物。
的PICOSUN®R-200标准ALD系统是热ALD研究仪器的市场领导者。它已经成为企业和专注于创新的研究机构的首选工具。灵活的设计使ALD薄膜沉积的最大质量以及系统的最终灵活性，以满足未来的要求和应用。专利热壁设计，具有完全独立的入口和仪器，使无颗粒处理适用于3D物体、晶圆和所有纳米尺度特征的广泛材料。欧洲杯足球竞彩
由于Picosun专有的Picoflow™技术，即使在极具挑战性的透孔、超高纵横比和纳米颗粒样品中，也能实现优异的均匀性。的PICOSUN®R-200标准系统配备了功能强大且易于交换的气体、液体和固体化学品前体源。与粉末室、手套箱和几个原位分析系统的集成，使高效和多功能的研究取得了良好的结果，无论目前的研究领域是什么，或未来可能成为什么。
技术特点
典型的衬底尺寸和类型
- 156毫米x 156毫米太阳能硅晶圆
- 50- 200mm单片晶圆片
- Mini-batch
- 3 d对象
- 粉末和颗粒欧洲杯猜球平台
- 多孔，透多孔，高纵横比(高达1:2500)
加工温度
典型的流程
- 艾尔2O3.,助教2O5, TiO2、SiO2高频振荡器,2, ZrO2，氧化锌，锡，AlN，金属如Pt或Ir
衬底加载
前体
- 液体，固体，气体，臭氧
- 多达六个来源和四个独立的进口
选项
- Picoflow™扩散增强剂2发电机，定制设计，RGA，气体洗涤器，惰性负载手套箱兼容性
ALD原理
