VELION:FIB-SEM如果FIB真正的首开先河

聚焦离子束(FIB)技术提供了非常通用的功能的用于制造多种材料。欧洲杯足球竞彩因此VELION是专用于纳米加工,其中FIB是主要的技术FIB-SEM系统。因此,该仪器是高度用于制造高分辨率,三层维纳米结构如透镜,等离激元的设备,局部注入,超材料,纳流控,和更优化。欧洲杯足球竞彩

在定制的FE-SEM柱和Raith的高精度激光干涉仪平台的支持下,VELION允许在四种不同的工作模式下非常通用。FIB纳米制造、样品制备、过程控制和电子束光刻现在只用一个工具就可以实现。

独特的架构使得VELION一个FIB优先系统,旨在满足最苛刻的纳米制造要求。它提供了各种直接的FIB处理方法,具有无与伦比的稳定性,再现性,自动化,高分辨率的光刻仪器。威夫纳米制造

图片来源:Raith

FIB方法可以通过直接的图形化(铣削、蚀刻、沉积)或硬掩膜来提高纳米制造的效率,并使基于无掩膜离子注入或表面功能化的新工艺成为可能。在不同的研发领域,人们对基于离子束的纳米制造的兴趣日益增长,而VELION正是为了满足这种需求而发展起来的。其独特的纳米fib三离子柱提供优越的放置精度,高分辨率,长期稳定和记录低束尾。定制的FE-SEM柱,以及其他选项,如气体注入系统、纳米探针和EDX,都支持FIB流程,极大地扩展了应用范围。

VELION产品详细信息

主要用途

  • 直接和三维FIB技术
  • 不含气体的FIB纳米加工
  • 纳米工程平台
  • 样品制备
  • SEM检查和光刻

阶段

  • 4“完整的旅游
  • 大Z旅行
  • 旋转和倾斜样品架
  • 其他倾斜设置

列技术

  • nanoFIB三
  • IONselect
  • 离子柱35千伏镓(金,硅,锗)
  • FE-SEM柱,30kv

独特的写作模式

  • traxx
  • periodixx

聚焦离子束好处

  • 真正的3D直接图案,还对样品地形
  • 简化流程和最快的时间内给结果工艺开发
  • 适用于具有挑战性或新材料的多功能FIB方法欧洲杯足球竞彩

奈米制造先进无伤大雅的谎言

  • 保证了10 nm以下的FIB纳米制造和突出的光束光斑特性
  • 超越多镓离子种类(IONselect技术)
  • 光刻级的稳定性和精度在较长的时间和区域
  • 激光干涉仪阶段最大精度和真正的现场缝合或连续图案

SEM多

  • SEM检查用于原位工艺控制
  • TEM样品制备过程中实时成像
  • 气体辅助工艺,操控,和探测

对于扩展的多功能性配置设置

在真空室上有许多通用端口,VELION支持一个可配置的设置,具有在未来升级的能力。除了其他功能,FIB-SEM系统可以安装一系列多线和单线气体注入系统。包含多个来自相反方向的GISs允许气体诱导过程,如纳米物体的布线和x -切片分析。气体辅助蚀刻具有更好的选择性、更高的去除率和更少的再沉积。

另外一个新功能是纳米轮廓仪作为附加选项,它可以实现3D过程控制和横向二次电子成像信息。3D表面成像解决方案nanoSense有助于在几分钟内现场确定蚀刻、沉积和铣削过程。其他选项包括各种光学相机,样品自动高度传感,等离子样品清洁,EDX等。一个VELION设置,包括扫描电子显微镜,SE和EDX检测器,5通道和两个单线GIS,光学macroscope以及两个纳米操纵器的CAD图

一个VELION设置,包括扫描电子显微镜,SE和EDX检测器,5通道和两个单线GIS,光学macroscope以及两个纳米操纵器的CAD图。图片来源:Raith

离子选择技术-镓以外的FIB纳米制造

nanoFIB Three技术用于连续输送具有纳米束直径的硅、金或其他离子。流动增强的合金离子源和低像差离子光学允许从单一源的多个离子物种之间轻松切换,同时保持纳米fib三柱的高分辨率和稳定性。

离子选择提供了各种各样的物种,从双重带电的轻离子到重离子和簇,所有这些都具有卓越的处理能力,并使不同的尚未探索的纳米制造方法成为可能。涉及特定功能化、低污染、高分辨率或表面敏感铣削的加工将为下一代研究的新突破打开大门。

VELION - FIB-SEM,其中FIB真正至上

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VELION:FIB-SEM如果FIB真正的首开先河

1毫米长的流体通道通过铣削和拼接制作
一个特殊的抗反射光栅的3维形状由X截面分析显示(图像现金:比尔肯大学)
扫描电子显微镜控制的一个测试阵列上的膜
EBL线宽和剂量测试模式
直接FIB研磨为3维吸收体结构(图像现金:浙江大学)
波导和光子晶体在抗蚀剂中的部分图样
FIB切削子10纳米的特征在挑战的材料,如多晶金(图像现金:斯图加特大学)欧洲杯足球竞彩
通过FIB研磨创建电浆特征高分辨率成像(图像现金:斯图加特大学)
通过原位提升制备TEM片层
写入场拼接允许与仅在10纳米尺度偏移长波导的直接研磨(图像学分:北大)

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