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波长色散XRF光谱仪- ZSX Primus 400

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Rigaku独特的ZSX Primus 400连续波长色散x射线荧光(WDXRF)光谱仪专门设计用于处理非常大和/或沉重的样品，测量直径达400毫米，厚度达50毫米，质量达30公斤。因此，该系统是分析溅射靶、磁盘和多层膜测量或大样品元素分析的理想方案。

XRF与定制样品适配器系统

这种WDXRF光谱仪具有高度的通用性，通过使用定制的可选适配器插入件，可以适应各种尺寸和形状的特定样品类型。此外，该仪器还能适应不同的分析要求。具有直径从30毫米到0.5毫米的可变测量点，5步自动选择和绘图能力，多点测量来检查样品均匀性，使WDXRF光谱仪是一种独特的灵活的仪器，可以显著简化您的质量控制过程。

XRF与可用的相机和特殊照明

可选的实时摄像机允许在软件中查看分析区域，从而为操作人员提供对被测量和分析样本的完全确定性和控制。

传统的WDXRF分析能力

传统仪器的相同分析能力保留在该“大型样品”变体中。这些能力包括使用WDXRF光谱从铍（Be）至铀（U）的元素的高分辨率和精确分析，以及作为在组合物尺寸范围内的固体，液体，粉末和甚至薄膜的样品。到几十％，以及从亚埃到mm的宽度宽的厚度范围。

衍射峰值干扰抑制也可用于实现单晶基板的最佳结果。Rigaku ZSX Primus 400波长色散X射线荧光（WD-XRF）光谱仪符合行业标准半和CE。

ZSX Primus 400 Applications

溅射靶组合物
隔离电影:SiO₂，bpsg，psg，assg，si₃nə，siof，sion等
高k和铁介电薄膜：PZT，BST，SBT，Ta 2 O 3，HFSIOx
金属薄膜：Al-Cu-Si，W，TiW，Co，锡，棕褐色，Ta-Al，IR，Pt，Ru，Au，Ni等。
电极薄膜：掺杂的聚 - Si（掺杂剂：B，N，O，P，AS），无定形-SI，WSIX，PT等。
其他掺杂膜(As、P)、困住惰性气体(Ne、Ar、Kr等)、C (DLC)
铁电薄膜，FRAM，MRAM，GMR，TMR;PCM，GST，Gete
焊点组成:SnAg, SnAgCuNi
MEMS: ZnO, AlN, PZT的厚度和组成
SAW器件过程：ALN，ZnO，ZNS，SIO的厚度和组成₂（压电薄膜）;Al，Alcu，Alsc，Alti（电极薄膜）

ZSX Primus 400配件

采样相机，具有特殊照明，以便易于查看分析点
衍射干涉抑制为单晶衬底提供了准确的结果
薄膜分析的基本参数软件

产品特性

大样本分析
- 直径〜400毫米
- ~ 50毫米厚度
- ~ 30公斤)
样品适配器系统
- 可适应各种样本量
测量的位置
- 直径范围30毫米- 0.5毫米
- 5步自动选择
映射能力提供多点测量
可选样本视图相机
通用
- 分析元素范围从Be - U
- 元素范围:ppm到%
- 厚度范围:sub Å to mm
可选的衍射干扰抑制
- 单晶衬底的精确结果
符合行业标准
- 半，CE标记
占用空间小
- 占用前一个模型的50%的内存

ZSX Primus 400规格

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大纲	元素范围	₄是 -₉₂U
大纲	光学	波长色散
X射线发电机	X射线管	结束窗口类型，RH-anode 4千瓦
X射线发电机	高压发生器	高频逆变系统 Max。额定功率:4kw, 60kv - 150ma
光谱仪	最大样本大小	直径400毫米，高度50毫米，≤30千克。可选的适配器可用于各种大小形状不规则的样品。
	主X射线过滤器	自动交换器(最多7个过滤器) Ni400、Ni40、Al125、Al25(标准) TI，SN（差异动作干扰拒绝，可选） Be30 (x射线管保护，选购)
	分析区域隔膜	30、20、10、1、0.5 mm φ
	水晶换热器	最多10个晶体
测量	探测器	重元素:SC 光元素:F-PC

安装要求

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权力	3阶段200/208 V 50 A，单相100- 240v 50/ 60hz (PC)
地面	独立接地，电阻小于30 Ω
冷却水	质量:相当于饮用水温度：低于30˚C 压力：0.29-0.49 MPa 流量：超过5升/分钟
引流	打开排水
室温	15-28°C，日变化±2˚C
湿度	RH低于75%
振动	低于人类的敏感水平
P-10气体	Ar 90％甲烷10％混合气体压力0.15MPa