用掩模版创建精确的光学薄膜

埃克斯特罗姆掩盖是一种系统,允许光学设计师生产顶部纯度和密度的薄膜,甚至可以使用可重复和全自动的过程沉积。这使得能够利用多种功能来创建精确的厚度控制:

顶点光学显示器

Apex是来自Angstrom的光学监测系统,其允许在可变角度级以原位或间接地监视该过程。这可以防止使用工具因素或证人玻璃更换器。

原位椭圆形

原位椭圆测定法的可用性允许在沉积阶段本身期间获取关于光学膜性能的数据。从椭圆形测量中获得的信息终止层被完全啮合到空气。提供了几种不同的多波长和光谱椭圆形平台。

石英晶体微稳定(QCM)

该系统具有QCM,该QCM具有位于基板附近的百叶窗,其允许操作者获取有关沉积膜的速率的信息,并且在每个瞬间沉积其厚度。QCM用于校准初始沉积速率,然后接通固定光束电流以在受控时段中完成层厚度。当使用百叶窗时,晶体在延长沉积过程时具有更长的操作寿命,或者如果使用的系统具有负载锁定。

用掩模版创建精确的光学薄膜

顶点光学显示器
原位椭圆形
石英晶体微稳定(QCM)
掩盖

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