这wafir™来自哈里克科学产品是一种水平的ATR配件，旨在分析单层和其他薄涂层，涂覆在两侧抛光的晶片的一侧。它包括硅晶体，入射角为45°，以将光线进出晶片。
WAFIR配备有压力施加器，该压力施加器包括设置用于最佳接触的压力焊盘，即使在测量区域外部的最小接触区域也是如此。一条滑动离合器集成到压力涂抹器中限制了在样品上施加的总力。为了实现可重复性，压力涂抹器设计成与扭矩扳手兼容。
WAFIR完全限制，以确保快速吹扫，与大多数FTIR光谱仪相容。
特征
- 多次反射确保高灵敏度
- 晶圆在直径直径52×10mm（8英寸）的晶片上，通过无阻碍，水平取样表面可容纳52×10mm（8英寸）
- 固定入射角为45°
- 设备可以2020欧洲杯下注官网容易地对齐和使用
- 非接触式采样技术;与耦合晶体接触发生在测量区域外部
- 可以更换硅耦合晶体
- 提供从涂层表面的33个反射，用于厚度为0.770 mm的晶片
- 包括焊盘的专用压力涂抹器确保与样品最小的接触
- 集成的滑动离合器限制样品上施加的总力
- 泛漏洞TM值能够快速交换样品，而不会对清除的任何中断
包括