新剥离系统的成本已上升到不合理的水平。Trion解决了这个关键问题。阿波罗等离子清洗系统是一个紧凑,廉价和多功能的系统,它可以处理100-300毫米晶圆。通过根据需要使用ICP或微波和射频偏置功率,可以在低温下去除难以去除的抗蚀剂层。根据应用需要,该系统可采用SST雷电微波源(既可靠又无典型微波调谐问题)或ICP技术。

规格

  • 蚀刻速率高达6ìm/min
  • 100mm至300mm晶圆
  • 高吞吐量
  • 占地面积小
  • 低等离子体损伤
  • 具有竞争力的价格
  • 自校正

应用

  • 微机电系统
  • 化合物半导体
  • 试生产线。

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