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新剥离系统的成本已上升到不合理的水平。Trion解决了这个关键问题。阿波罗等离子清洗系统是一个紧凑,廉价和多功能的系统,它可以处理100-300毫米晶圆。通过根据需要使用ICP或微波和射频偏置功率,可以在低温下去除难以去除的抗蚀剂层。根据应用需要,该系统可采用SST雷电微波源(既可靠又无典型微波调谐问题)或ICP技术。
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统-OrionⅢ
等离子刻蚀系统-Sirus T2台式反应离子刻蚀机(RIE)
反应离子刻蚀系统-幻影III