Trion Technologies公司的Sirus T2反应性离子刻蚀器(RIE)是一种基本的等离子刻蚀系统，设计用于刻蚀介质和其他需要基于氟的化学物质的薄膜。占地面积小，设计稳健，非常适合实验室环境。
应用程序
- 微机电系统
- 固态照明
- 失效分析
- 研究与开发
- 试点行
Sirus T2反应性离子蚀刻器的标准功能
- Sirus T2反应器与200mm底部电极
- 系统控制器(包括基于Pentium™的计算机和触摸屏界面)
- 两个质量流量控制器
- 自动调谐与13.56 MHz 600瓦RF发生器
- 紧急关闭系统
- 自动压力控制组件(带电容式压力计的蝶阀)
- 12个月有限保修