来自牛津仪器的PlasmApro 800是用于在大批晶圆上进行等离子体增强的化学气相沉积（PECVD）工艺的通用溶液，晶片300mm。PlasmApro 800系统是一种具有紧凑型占地面积的开放式系统。
该系统包括大晶片压板，其能够使生产级批处理和处理300mm晶片。
- 准确的过程控制
- 高性能流程
- 建立了300毫米单晶片破坏分析的过程
- 优异地控制衬底温度
概述
PlasmApro 800包括直径为460mm的桌子，从而提供完整的300mm或大批量43mm×50mm（2“）容量。此功能提供完整的生产解决方案，从而将PlasmApro 800系统建立为经过熟悉的行业领先产品。
图片信用：牛津仪器等离子技术
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