来自牛津仪器的IONFAB 300 IBE是一种离子束蚀刻系统，可提供最终的柔韧性，以及优异的均匀性。该系统适用于广泛的应用。
蚀刻系统包括多功能硬件选项，例如单衬底装载锁，打开负载和盒到盒式磁带。系统规范符合应用恰好一致，从而确保可重复和更快的过程结果。
- 双光束配置
- 多模式功能
- 无与伦比的过程再现性和批量均匀性
- 可以与其他等离子体蚀刻和沉积工具相结合
- 簇晶片处理或单晶片装载锁
- 表面膜粗糙度非常低
- 用于光发射和SIMS的精确终点检测
ionfab 300 ibe的特征
- 专利的高速基板支架（高达500 rpm），配备白光光学监测器设计 - 高精度的原位光学膜控制
- 具有最小化足迹的高吞吐量 - 操作成本低
- 高品质的薄膜 - 非常低的污染
- 柔性晶圆处理潜力 - 单晶圆装载锁，开放式负载或盒式磁带机器人处理程序
- 多功能配置 - 复杂的研究应用
图片信用：牛津仪器等离子技术
图片信用：牛津仪器等离子技术