等离子体原子层沉积工艺与热ALD - FlexAL

牛津仪器公司的FlexAL系统提供远程等离子体原子层沉积(ALD)过程和热ALD,在一个单一的ALD系统。这为设计纳米级结构和器件提供了全新的灵活性和能力。

  • 远程等离子体和热ALD在一个单一的灵活的工具
  • 远程等离子体确保低伤害
  • 等离子ALD促进低温过程
  • 在选择前体和材料方面具有极大的灵活性欧洲杯足球竞彩
  • 能不能耦合用于真空转移的基片
  • 盒式磁带到盒式磁带的处理提高产量是生产的理想选择
  • 能处理200毫米的晶圆吗
  • 菜谱驱动的软件界面确保了可控的、可重复的过程

概述

ALD产品系列包括多种工具,以满足企业研发、学术和小规模生产的不同需求。

FlexAL

图片来源:牛津仪器等离子体技术公司

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