Quorum Technologies的Q150V Plus经过优化设计，适用于高真空应用，最终真空度为1 x 10−6.毫巴。当与宽量程Penning/Pirani压力计结合使用时，Q150V Plus允许溅射具有超细晶粒尺寸的氧化金属，这是高分辨率成像的理想选择。
较低的背景压力将氮、氧和水蒸气从腔室中排出，防止了在溅射过程中可能导致涂层缺陷或杂质的化学反应。同样，较低的散射使得能够显影高纯度、高密度的非晶碳膜。
图片来源：Quorum Technologies。
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Q150V Plus提供了Q150T Plus的所有优点，但具有更细的晶粒尺寸和更薄的涂层，适用于超高分辨率应用（放大倍数超过200000倍）。
视频来源：Quorum Technologies。
主要特点
- 1 x 10的极限真空−6.毫巴
- 新型多色LED视觉状态指示器
- 新型触摸和滑动电容屏
- 16GB闪存可存储1000多种食谱
- 可以在一台计算机上配置多个用户配置文件
- 新软件根据用户最近的使用情况对配方进行分类
Q150V Plus有三种配置
Q150V S升级版–一种用于氧化超细晶粒金属的自动溅射镀膜机。可用的溅射靶包括铬、铱和所有贵金属
Q150V E增强型–用于TEM应用的自动碳涂层机（棒/线）。用于碳涂层TEM网格。
第一季度50伏ES Plus–能够溅射和碳涂层的组合系统。沉积头插件可以在几秒钟内更换。提供金属蒸发/孔径清洁选项。