UHV设计的震中系列沉积阶段采用先进的设计和工程技术，提供高温，均匀和强大的基材加热，在实际的UHV条件下准确操作。
已经开发了针对溅射，化学气相沉积（CVD）和分子束外延（MBE）等沉积应用的焦化。还可以进行脱气，衬底退火和其他高温材料改变。
Epicentres可以在任何方向上安装，以匹配客户室设计和应用配置。
主要特征
- 高度均匀的基材加热高达1200°C
- 选择正确角度，在线和闪烁角度配置的选项
- 基板旋转可能最多60 rpm
- RF和DC衬底偏置是可行的超稳定等离子体
- 基板尺寸范围高达8“
- 模块化设计可实现特定于应用的配置
ECI型衬底加热器级。
ECR直角基板加热器级。