利用离子溅射镀膜器实现非导电样品成像

离子溅射镀膜机允许非导电样品在高真空模式下成像,以获得最高分辨率的成像。溅射涂层通过在试样上涂覆几纳米厚的金或铂金属薄膜来提高试样的电导率,较高的电导率增加了二次电子的产生量,并产生了更高的分辨率的图像。

mcm - 100 p:快速模式

mcm - 200:触摸PAD -高级模式

*快速方便的镀膜方法(开始按钮→自动真空→等离子镀膜→排气)

*样品装载尺寸-最大50mm

*目标材料- Au(金)、Pt(铂)

*实时显示当前值

*根据用户需要设置时间

*小型真空泵可减少安装位置

*当前,真空设置/保存食谱功能

规范

来源:证券交易委员会

mcm - 100 mcm - 200
目标材料 盟,Pt
目标电极尺寸 Φ50毫米
室的大小 Φ120毫米x65毫米 Φ130毫米x110毫米
样表的大小 Φ50毫米
Electrode-Sample表时间间隔 35毫米
180(宽)× 310(深)× 310(高)/ 15 kg 505 (W) x 310 (D) x 250 (H) / 10 kg

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