Hiden Analytical可获得的残留气体分析仪(RGA)提供的独家窗口进入真空环境中,用于泄漏检测,污染监测和靶物种的分析 - 例如,水蒸气 - 在真空室内。
隐藏残余气体分析仪本质上是四极质谱仪,已配置在各种产品,以处理科学,技术和真空处理的应用。欧洲杯线上买球
Hiden剩余气体分析仪也配备直观和多级软件,为新手用户提供了简单的故障安全*操作,同时为真空专家集成了广泛的复杂和有用的功能。
*板载安全功能包括通过内部测量对探测器和灯丝的过压保护,以及用于外部超压保护装置的连接。
例行检查的真空残留物
氢-该气体在质量2中量化,并且对UHV应用特别感兴趣,其中除气可以是实现终极真空的限制因素。
氦-该气体在质量4上量化,并用作搜索气体进行泄漏检测。Hiden剩余气体分析仪采用专门的泄漏检测模式,可用于氦的快速响应分析。
水蒸气-这在质量18中量化,并且是泵到UHV水平最具挑战性的残留物,但不泵送或烘烤真空室长时间。
氮气和氧气 -这些分别在质量数28和32时定量,在质量数14和16时确定了更多的峰。测量一个相当大的“空气峰值”信号通常是腔室泄漏的第一个迹象。
碳氢化合物,这在质量扫描上以多种群体进行研究,并且通常可以在质量编号41和43,55和57,69和71处检测,以及用于烷烃和烯烃的15。具有高灵敏度的RGA宽质量扫描使用户能够获取关于腔室的污染水平的深入信息。
挥发性有机化合物-这些是定量的物种特定的质量,如质量31的乙醇,45的异丙醇,78的苯,和91的甲苯。Hiden analytics的RGAs通过实时数据显示对这些物种进行检测,为真空用户提供与关键真空残余物分压的健康状况和趋势相关的即时和最新数据。
信息用于常规泄漏检测,真空室监测,尖端研究研究,以及用于分析真空过程。
RGA系列
Hiden Analytical的所有残留气体分析仪都经过了应用测试和校准,以提供最大的质量性能。该分析仪有三年保修和终身服务支持。
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真空炉监控
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真空诊断
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真空过程分析
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泄漏检测
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反应溅射闭环控制
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污染分析
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UHV TPD
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UHV / XHV表面科学欧洲杯线上买球
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半导体生产
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分子束研究
Hiden RGA系列包括三种规格级别
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用于分析应用的HAL/ 3f三重过滤质谱仪
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用于残余气体分析
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HAL / 3F PIC脉冲离子计数检测快速事件研究
光环100 RC。图片来源:Hiden Analytical
Hal / 3f。图片来源:Hiden Analytical
哈尔/ 3 f照片。图片来源:Hiden Analytical
主要特点/选项
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超快的数据采集高达650次每秒
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质量范围选项- 50,100,200,30和510 amu
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生活背景减
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广泛的离子源和护罩选择
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铱丝涂层双抗烧毁氧化物
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整体大众图书馆
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高灵敏度的氦泄漏检测和质量可选的搜索气体
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复杂的分析能力解释复杂气体
卤素用于残余气体分析
光环201 RC。图片来源:Hiden Analytical
光晕分析仪和射频头。图片来源:Hiden Analytical
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泄漏检测
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真空指纹直方图和峰值轮廓扫描
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趋势分析 - 可以实时监测多种超过80个部分压力值的多种物种
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基线漂移和零喷砂是去除的 - 真空室剩余气体和气相物种可以进行比较和分析
探测器的选择:
敏感性:
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电子乘法器 -检测到2 x 10-13mbar
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法拉第 -检测到1 x 10-11mbar
最高操作压力:
Hiden对氦的RGA灵敏度是典型分析仪的5倍*,提供卓越的泄漏检测性能。图片来源:Hiden Analytical
*基于对公布的相对灵敏度数据的参考。
特征
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探测器选择-法拉第或法拉第和电子倍增器
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质量范围选项-100,200和300 AMU
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即使存在饱和信号,自动Desat™模式也能实现高速扫描
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自动电子束快门EBS™提高了噪声的抑制
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PC视窗控制
用于分析应用的HAL / 3F-Triple滤光片质谱仪
三重过滤总成。图片来源:Hiden Analytical
HAL / 3F分析仪和RF头。图片来源:Hiden Analytical
3F性能包括增强的高肿块物种灵敏度,以及增加的分辨率能力。图片来源:Hiden Analytical
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应用于分子束测量、气体分析和XHV/UHV研究的特定电离源
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三重质量过滤技术,具有高灵敏度,具有丰富的敏感性和改善污染抗性
质量范围选项:
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50,200,300和510 amu
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Mass Range选项系列1000款高达5000 AMU
检出限:
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单通道电子倍增器-2 x 10-14mbar
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法拉第detector-1x10-11mbar
最高操作压力:
特征
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法拉第探测器和单通道电子倍增器
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质量范围选项-50,200,300和510 AMU
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即使存在饱和信号,自动Desat™模式也能实现高速扫描
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自动电子束快门EBS™提高了噪声的抑制
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完全控制场轴电位-离子能、电子能和离子源发射
用于快速事件研究的脉冲离子计数检测的HAL/3F pic三滤质谱
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七十年连续测量从1 c/s到107CS
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脉冲离子计数检测瞬态气体分析和快速事件研究,如UHV TPD
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包括具有50 ns时间分辨率的多通道缩放器检测器选项
质量范围选项:
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检测限用脉冲离子计数检测器小于5 x 10-15mbar
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50,300和510 AMU
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Mass Range选项系列1000款高达5000 AMU
最高操作压力:
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1 x 10−4mbar与法拉第选项
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5 x 10.−6mbar
PPM / PPB水平的高质量瞬态数据采集.特高压TPD的理想选择。图片来源:Hiden Analytical
哈尔/ 3 f照片。图片来源:Hiden Analytical
HAL/3F PIC分析仪和RF。图片来源:Hiden Analytical
特征
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每秒超过650次测量
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七十年的动态范围
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脉冲研究的信号门控
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检测达<5 × 10-15mbar
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PCA模式-预测计数积累模式大大延长了电子倍增器的寿命
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多通道缩放器选项具有50 ns的时间分辨率
Hiden Analytical创建了许多不同类型的离子源,可以容纳到它的整个RGAs范围。离子源的类型对RGAs的性能非常重要,此外,指定用户所需的离子源类型的潜力确保了Hiden Analytical的RGAs是为特定应用定制配置的。