高通量晶圆镀膜系统

Forge Nano的APOLLO晶圆镀膜系统提供了完全自动化的盒式对盒式ALD工艺，具有最低的拥有成本和高吞吐量性能。

在ALD生产效率、成本和性能的各个方面，APOLLO都是最好的，同时为效率和环境影响设定了一个全新的标准。由于它的“零废物”处理，阿波罗减少了工厂的电力消耗，并且在洁净室地板上需要更小的足迹。

关键特性

• 紧凑footprint-1米²每室
• 超快速沉积120-300 Å/分钟
• 下午250时进行维修
• 完全联锁和故障安全
• 泵寿命长，无浪费
• 晶圆片和批次之间的一致性在1%以内
• 前体利用率高达90%

应用程序

• 医疗设备和传感器
• 消除密封包装
• 光学传感器
• 外壳适用于环境、腐蚀和高压绝缘
• CoBs, pcb，模块和集成电路
• 电子设备

锻造纳米交付阿波罗在世界各地促进新一代先进技术。阿波罗包括世界级的维护和一流的服务，由Forge Nano的美国科学家和工程师团队提供。

基本规格与配置

性能

阿波罗以最高的生产能力、优良的化学利用和最低的拥有成本，实现了ALD生产率的新水平。Forge Nano的专利SMFD-ALD™工艺保证了薄膜和纳米层压板的质量。

功能

阿波罗系统使廉价的ALD薄膜，如铝₂O_3.高频振荡器,₂、ZnAlO ZrO₂氧化锌,助教₂O₅, TiO₂、SiO₂,注_3.N₅、HfSiO、BN、<300°C TiN、GaN等。这一工艺甚至覆盖了复杂的图形化晶圆，如先进的DRAM设备晶圆，其面积增加了50多倍。

• 复合三元、四元合金薄膜
• 厚膜沉积(>5 μm)
• 100%保形膜超过任何拓扑
• 具有可重复原子层控制的纳米层压板无缝掺入
• 低温加工(低至80°C)

APOLLO系统能够使用纳米复合材料和复合材料进行平滑和可重复的薄膜工程。薄膜附着力超过1000psi的几种不同的基材，如铜，锡，聚酰亚胺，黄金，陶瓷，FR4，粘合剂，不同的焊锡掩膜材料，聚氨酯等。欧洲杯足球竞彩

设计

APOLLO采用了Forge Nano的毫秒响应ALD歧管，该歧管结合了10个其专利的快速气动阀门(FPV)，可提供超过1亿个无故障循环的复合和纳米层压ALD薄膜。这种ALD歧管是唯一一种能够在每个循环中切换成分而不造成任何吞吐量损失的歧管。

Forge Nano的阀门自2005年以来经过了现场验证，在可靠性、速度、安全性和使用寿命方面都创下了记录，同时在高达220°C的高温下运行。Forge Nano的ALD阀门是市场上唯一的双包含，无溢出的超高压阀门。

配置

阿波罗系统可以容纳75到300毫米的晶圆，具有盒式到盒式或单片装入器配置。

化学

从新颖的、专有的来源获得的良好调控、有效的蒸汽输送有助于快速、低成本沉积需要低挥发性前体的薄膜。更新颖和专有的按需源被用于安全监管和递送其他过度反应或短命的反应物。