HELIOS:高吞吐量对象涂层系统

HELIOS工业系列是一种高通量对象涂层系统，有助于将低成本原子层沉积(ALD)涂层应用于从微米到米的组件。

HELIOS涂层系统将原子级控制、薄膜质量和ALD的保形性能引入商业制造，为新的可能性和创新应用铺平了道路，如保护功能性表面工程物体。

关键特性

• 高吞吐量增长在60至150 Å/分钟
• 沉积室的尺寸可达1 × 1米
• 能保持500µm的间隔吗
• 消耗品的效率高达90%
• 零废弃物治理系统

应用

• OLED显示器和传感器
• 电子设备
• 医疗设备和传感器
• ic, pcb, CoBs和模块
• 太阳能与显示技术
• 光学涂层
• 用于腐蚀、环保、高压绝缘的封装
• Photo-catalytic涂料

Forge Nano在全球范围内提供HELIOS系统，以促进一系列新的复杂技术。HELIOS涂层系统具有来自Forge Nano的美国科学家和工程师团队的世界级服务和一流的维护。

基本规格和配置

性能

HELIOS涂层系统旨在提供高效的“零浪费”处理。它占地面积小，大大降低了工厂的电力消耗。一项专利，内置消除确保更少的维护，并超越了传统PVD和CVD设备的历史记录。2020欧洲杯下注官网

HELIOS涂层系统简单、模块化、灵活，以低成本提供了无与伦比的生产率和性能。这是第一次，低应力，无针孔和令人难以置信的共形ALD薄膜，现在可以在亚秒周期时间和高生产率，符合工业应用需求。

来自Forge Nano的SMFD-ALD™专利技术在不影响薄膜质量的情况下提供了生产率和性能。

能力

廉价的ALD薄膜，如ZnO, ZrO₂,艾尔。₂O_3.、ZnBO、ZnAlO、TiO₂，SiO₂、BN、TiN、TiAlO、Nb_3.N₅等。他们允许复制和完美的膜工程与纳米复合和纳米层压能力，并具有超过1000psi的粘附到几种不同的基材，如铜，金，锡，聚酰亚胺，FR4，各种焊料掩模材料，粘合剂，陶瓷，聚氨酯等。欧洲杯足球竞彩

设计

HELIOS涂层系统集成了Forge Nano的毫秒响应ALD流形管，该流形管结合了公司的10个专利快速气动阀(FPV)，提供了超过1亿次纳米覆膜和复合ALD薄膜的无烦恼循环。这是唯一的ALD歧管，可以改变每个周期的组成，而不影响产量。

Forge Nano的阀门自2005年开始在现场得到验证，在安全性、速度、寿命和可靠性方面创造了记录。Forge Nano的ALD阀门是市场上唯一无泄漏、双容式UHP阀门。

配置

HELIOS涂层系统通过结合特定零件和模块化工具以及通用装载机，可容纳多种不同尺寸和形状的部件。腔室的典型尺寸范围为1.5至80 L或高达1 x 1 m的面板（也可提供定制尺寸）。

化学

专利和新型来源的良好调节和有效的蒸汽输送允许快速、低成本的薄膜沉积，需要低挥发性前驱物。更专有和新颖的按需源被用于安全管理和交付极端反应或寿命较短的反应物。