epg®610来自EVG组的掩模对准系统支持各种标准光刻工艺，如软，硬质，真空和接近曝光模式，包括后侧对准的选项。此外，该系统提供额外的能力，例如粘合对准和纳米压印光刻（NIL）。
epg®如图610所示，可以快速处理和重新制作，以便不同的用户需求，过渡时间不到几分钟。其现代的多用户概念可以从初学者调整到专家，从而完善大学和研发应用。
特征
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可提供顶面和底侧对准能力
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晶圆或基板大小从碎片的范围内高达200 mm / 8“
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提供逐步处理引导
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可提供自动楔形补偿序列
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配有高精度对准级
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减少系统足迹和设施需求
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电动和配方控制的曝光间隙
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支持新的UV LED技术
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远程技术支持的可用性
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可用的敏捷处理和转换重新制作
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多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，不同的用户界面语言和可分配的访问权限）
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柜台或自动版可用防振花岗岩桌
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额外功能：
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Nanoimprint光刻（NIL）
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IR对齐
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债券对齐
技术数据
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。 |
| 对齐模式 |
顶部对齐：≤±0.5μm
底部侧剖：≤±2,0μm
IR对准：≤±2,0μm/衬底材料，取决于
键对准：≤±2,0μm
零对准：≤±2,0μm |
| 曝光来源 |
汞光源/ UV LED光源 |
| 楔形赔偿 |
全自动 - SW控制 |
| 晶片直径（基板尺寸） |
高达100/150/200毫米 |
| 曝光设置 |
真空接触/硬触头/软接触/近距离模式 |
| 曝光选项 |
间隔暴露/洪水暴露/扇区曝光 |
| 高级对齐功能 |
手动对齐/原位对齐验证
手动交叉纠正
大差距对齐 |
| 系统控制 |
操作系统：Windows
文件共享和备份解决方案/无限制。食谱和参数
多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR
实时远程访问，诊断和故障排除 |
| NanoImprint光刻技术 |
uv-nil. |
来源：ev组