EV集团的IQ对准器NT是生产效率最高、技术最先进的自动化掩模对准系统,已开发用于大批量应用。
该系统采用最先进的印刷GAB控制和零辅助双尺寸晶片处理能力,完全解决了用户的大容量制造(HVM)要求。与EVG的上一代IQ对准器系统相比,它在对准精度和吞吐量增加2倍的提高,从而提供了所有掩模对准器的最大吞吐量。
IQ Aligner NT超越了对后端光刻应用程序的最苛刻的需求,同时提供了高达30%的低拥有成本的竞争系统,这些系统是由掩模对准工具支持的最大吞吐量发展而来的。
由于其最新的晶圆对准跳变控制、全场掩模移动能力和高功率UV光源,IQ对准NT非常适合晶圆碰撞和插入器模式,从而服务于一系列最新的封装类型,如3D-IC/through-silicon via (TSV)、风扇出晶圆级封装(FOWLP)、片级芯片级封装(WLCSP)、倒装芯片和2.5D插入器。
特征
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零辅助桥架工具-双基板概念,支持200毫米和300毫米生产的灵活性
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产量大于200 wph(首次打印)
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手动基板加载能力的可用性
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可提供尖端对准精度
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背面对准下降到500纳米
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顶侧对齐可达至250nm
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宽带强度大于120mw /cm²(300mm晶片)
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完全Clearfield Mask Movement (FCMM)提供了与暗场Mask对齐和灵活的图案定位的兼容性
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由于超扁平和快速响应温度控制的晶片卡盘,因此出色的耗尽补偿
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可以进行无接触的原位掩模-晶圆接近间隙验证
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GEM300兼容性和远程技术支持可用
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可用的队列或并行任务处理功能
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配有返工排序晶圆管理和灵活的盒式系统
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智能处理功能
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智能维护管理和跟踪
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可用的智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)
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发生与报警分析
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过程和机器控制的组合分析功能
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自带设备和工艺性能跟踪2020欧洲杯下注官网功能
技术数据
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吞吐量 |
全自动:产量:第一次打印:200片每小时 全自动:产量一致:160片/小时 |
工业自动化 特性 |
盒式/ SMIF / FOUP / SECS/GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理 |
智能过程控制和 数据分析功能 (框架SW平台) |
流程和机器控制的综合分析功能 并行任务/队列任务处理功能 2020欧洲杯下注官网设备和工艺性能跟踪功能 智能处理功能 事故和报警分析/智能维护管理和跟踪 |
晶圆直径 (底物大小) |
高达300毫米 |
对齐方式 |
上侧边对齐:≤±0,25µm 底侧对齐:≤±0.5µm IR取向:≤±2,0µm /基底材料视情况而定 |
曝光设置 |
硬触点/软触点/接近模式/伸缩模式 |
楔形补偿 |
全自动- SW控制 非接触式 |
曝光选项 |
间隔曝光/洪水曝光 |
先进的对齐 特性 |
自动对齐 Darkfield对齐能力/全透明屏蔽运动(FCMM) 大差距对齐 摆控制对齐 |
系统控制 |
操作系统:Windows 文件共享和备份解决方案/无限。配方和参数 多语言用户界面和支持:CN, DE, FR, IT, JP, KR 实时远程访问,诊断和故障排除 |
来源:ev组