IQSigner®NT:技术先进的自动掩模对齐系统

EV集团的IQ对准器NT是生产效率最高、技术最先进的自动化掩模对准系统,已开发用于大批量应用。

该系统采用最先进的印刷GAB控制和零辅助双尺寸晶片处理能力,完全解决了用户的大容量制造(HVM)要求。与EVG的上一代IQ对准器系统相比,它在对准精度和吞吐量增加2倍的提高,从而提供了所有掩模对准器的最大吞吐量。

IQ Aligner NT超越了对后端光刻应用程序的最苛刻的需求,同时提供了高达30%的低拥有成本的竞争系统,这些系统是由掩模对准工具支持的最大吞吐量发展而来的。

由于其最新的晶圆对准跳变控制、全场掩模移动能力和高功率UV光源,IQ对准NT非常适合晶圆碰撞和插入器模式,从而服务于一系列最新的封装类型,如3D-IC/through-silicon via (TSV)、风扇出晶圆级封装(FOWLP)、片级芯片级封装(WLCSP)、倒装芯片和2.5D插入器。

特征

  • 零辅助桥架工具-双基板概念,支持200毫米和300毫米生产的灵活性
  • 产量大于200 wph(首次打印)
  • 手动基板加载能力的可用性
  • 可提供尖端对准精度
  • 背面对准下降到500纳米
  • 顶侧对齐可达至250nm
  • 宽带强度大于120mw /cm²(300mm晶片)
  • 完全Clearfield Mask Movement (FCMM)提供了与暗场Mask对齐和灵活的图案定位的兼容性
  • 由于超扁平和快速响应温度控制的晶片卡盘,因此出色的耗尽补偿
  • 可以进行无接触的原位掩模-晶圆接近间隙验证
  • GEM300兼容性和远程技术支持可用
  • 可用的队列或并行任务处理功能
  • 配有返工排序晶圆管理和灵活的盒式系统
  • 智能处理功能
  • 智能维护管理和跟踪
  • 可用的智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)
  • 发生与报警分析
  • 过程和机器控制的组合分析功能
  • 自带设备和工艺性能跟踪2020欧洲杯下注官网功能

技术数据

吞吐量 全自动:产量:第一次打印:200片每小时
全自动:产量一致:160片/小时
工业自动化
特性
盒式/ SMIF / FOUP / SECS/GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
智能过程控制和
数据分析功能
(框架SW平台)
流程和机器控制的综合分析功能
并行任务/队列任务处理功能
2020欧洲杯下注官网设备和工艺性能跟踪功能
智能处理功能
事故和报警分析/智能维护管理和跟踪
晶圆直径
(底物大小)
高达300毫米
对齐方式 上侧边对齐:≤±0,25µm
底侧对齐:≤±0.5µm
IR取向:≤±2,0µm /基底材料视情况而定
曝光设置 硬触点/软触点/接近模式/伸缩模式
楔形补偿 全自动- SW控制
非接触式
曝光选项 间隔曝光/洪水曝光
先进的对齐
特性
自动对齐
Darkfield对齐能力/全透明屏蔽运动(FCMM)
大差距对齐
摆控制对齐
系统控制 操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限。配方和参数
多语言用户界面和支持:CN, DE, FR, IT, JP, KR
实时远程访问,诊断和故障排除


来源:ev组

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