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EVG50(完全自动化的独立工具)和内联计量模块(在EVG的大容量制造系统中组合)在高速提供高精度的测量值,利用各种测量技术进行大量应用。
该工具的应用范围涵盖用于确定中间层的总厚度变化(TTV),检查粘合界面和测量抗蚀剂厚度,同时满足产量驱动的半导体行业的最苛刻需求。
EVG的异构集成能力中心
EVG®Nilphotonics®能力中心:灵活的合作模式
EVG®101:单晶片抗蚀剂处理系统
EVG®105烘烤模块:用于软或暴露后烘焙过程
EVG®120:紧凑,经济高效的抗蚀剂处理系统
EVG®150:全自动抗蚀剂处理系统
EVG®20IR检测系统:粘合晶圆堆栈的快速无效检查
EVG®320D2W:自动模具准备和激活系统
EVG®40NT:用于粘接和光刻的高精度计量
EVG®510HE SEMI自动化热压花系统
EVG®520HE SEMI-AUTMATED HOT FUMPOST系统
EVG®610BA键对准系统,用于晶片到晶片对准,高达200毫米
EVG®610紫外线:纳米压印光刻系统
EVG®620BA:用于晶片到晶圆对齐的自动粘合对准系统
EVG®620NT:最先进的掩模对齐技术
EVG®6200BA:用于晶片到晶圆对齐的自动粘合对准系统
EVG®6200NT面罩对齐器:最先进的掩模对齐技术
EVG®720:自动化SmartNil®UV纳米压印光刻系统
EVG®7200:自动化SmartNil®UV纳米压印光刻系统
EVG®7300:自动紫外线纳米视图溶液高达300毫米
EVG®770:步进和重复纳米压印光刻系统
EVG7200:大面积紫外线纳米压印系统
Gemini®FB:自动集体模具到晶圆键合系统
帮助半导体制造技术与半自动热压花系统
HERCULES®:用于盒式磁带处理的集成光刻轨道系统
用自动抗蚀剂处理系统提高高质量,用于微型和纳米电子
IQSigner®NT:技术先进的自动掩模对齐系统
IQSigner®:非接触式接近光刻平台
Lithoscale®:高度通用的无掩模曝光光刻平台
SmartView®NT:用于通用对齐的自动绑定对齐系统
使用EVG®610支持各种标准光刻工艺