EVG610 UV纳米压印工具支持一系列标准光刻工艺，如真空、软、硬和接近曝光模式，包括背面对准的选择。该系统为多用途配置提供了额外的能力，如纳米压印光刻(NIL)和键合对准。
EVG610能够快速处理和重新加工，以改变用户的需求，只需几分钟的光刻和零之间的转换时间。该系统最新的多用户概念可以适应从初学者到专家水平，从而使其完美的大学和研发应用。
在压印工艺中，EVG610使基片的尺寸从小到直径为150毫米。纳米技术应用的配置包括邮票的释放机制，以及可编程的高和低接触力。EV集团的专用卡盘设计提供了高屈服压印的均匀接触力，支持软硬压印。
特性
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配有高精度对准台
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可用的顶部和底部对齐能力
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提供了逐步的过程指导
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提供楔形误差自动补偿机构
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减少系统占地面积和设施需求
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电动和配方控制曝光间隙
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远程技术支持
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辅助新的UV-LED技术
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可实现光刻工艺之间的敏捷处理和转换
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多用户概念(无限制的用户帐户和食谱，不同的用户界面语言和可分配的访问权限)
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台面或单机版可配防振花岗岩台面
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附加功能:
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µ联络印刷
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债券对齐
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Nanoimprint光刻
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红外对齐
技术数据
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． |
晶圆直径
(底物大小) |
标准光刻:片长不超过150毫米
软UV-NIL:件高达150毫米 |
| 决议 |
≤40nm(分辨率取决于模板和工艺) |
| 支持过程 |
软UV-NIL |
| 暴露源 |
汞光源或UV LED光源 |
| 自动分离 |
不支持 |
| 印章制作工作 |
外部 |
来源:电动汽车集团